Напівпровідникові душі

ЗПластина розподілу газу, часто їх називають "душовою головкою", може нагадувати звичайну душову головку, але його ціна може охопити сотні тисяч, що значно вище, ніж типовий душ у ванній кімнаті.

На поверхні розподілу газового розподілу є сотні або навіть тисячі крихітних, точно розташованих отворів, що нагадують тонко тканану нейронну мережу. Ця конструкція дозволяє точно контролювати потік газу та ін'єкційні кути, гарантуючи, що кожна частина області обробки вафельних виробів рівномірно "купається" в процесі технологічного газу. Це не тільки підвищує ефективність виробництва, але й покращує якість продукції.

Пластина розподілу газу є невід'ємною частиною ключових процесів, таких як очищення, травлення та осадження. Він безпосередньо впливає на точність напівпровідникових процесів та якість остаточних продуктів, що робить його критичним компонентом у різних програмах розподілу газу.

Під час процесу реакції вафельдушщільно покритий мікропорами (діафрагма 0,2-6 мм). Через точно розроблену структуру каналу та шляху газу спеціальний технологічний газ повинен проходити через тисячі невеликих отворів на рівномірній газовій пластині, а потім рівномірно осідати на поверхні вафлі. Шар плівки в різних областях пластини повинен забезпечити високу рівномірність та послідовність. Тому, крім надзвичайно високих вимог до чистоти та корозійної стійкості, пластина розподілу газу має суворі вимоги щодо узгодженості діафрагми невеликих отворів на пластині розподілу газу та зади на внутрішній стінці невеликих отворів. Якщо толерантність до розміру діафрагми та стандартне відхилення консистенції занадто великі або на будь -якій внутрішній стінці є пори, товщина осадженого плівкового шару буде різною, що безпосередньо вплине на вихід процесу обладнання.

Матеріал розподілу газу іноді є крихким матеріалом (наприклад, монокристалічним кремнієм, кварцовим склом, керамікою), який легко розірвати під дією зовнішньої сили. Це також ультрасипний отвір у 50 разів більше діаметра мікропор, і ситуація з різанням не може бути безпосередньо спостерігається. Крім того, різання тепла непросто передає, а видалення мікросхеми складне, а свердло легко зламається через блокування мікросхем. Тому його обробка та підготовка дуже складна.

Крім того, у процесах, що допомагають у плазмі (таких як PECVD та сухе травлення), душова головка, як частина електрода, також повинна генерувати рівномірне електричне поле через джерело живлення РФ для сприяння рівномірному розподілу плазми, тим самим покращуючи рівномірність травлення або осадження.

Оскільки гази, що використовуються в процесі виробництва напівпровідників, можуть бути високою температурою, високим тиском або корозійним, душ зазвичай виготовляється з корозійних матеріалів. У фактичному виробництві, через різні сценарії використання та фактичну необхідну точність, пластина розподілу газу може бути поділена на наступні два категорії відповідно до її матеріального складу:

(1) Пластина розподілу металу

Матеріали металевих пластин для розподілу газу включають алюмінієвий сплав, нержавіючу сталь та метал нікелю, серед яких найбільш широко використовуваний матеріал розподілу металевих газових пластини - це алюмінієвий сплав, оскільки він має хорошу теплопровідність та сильну стійкість до корозії. Він широко доступний і простий у обробці.

(2) Неметалічна пластина розподілу газу

Матеріали неметалічних пластини розподілу газу включають монокристалічний кремній, кварцовий скло та керамічні матеріали. Серед них часто використовувані керамічні матеріали-це CVD-SIC, кераміка глинозему, кераміка нітриду кремнію тощо.

Semicorex пропонує якіснуCVD SIC душу напівпровідниковій промисловості. Якщо у вас є якісь запити або потрібні додаткові деталі, будь ласка, не соромтеся зв’язатися з нами.

Зверніться до телефону # +86-13567891907

Електронна пошта: sales@semicorex.com