Ви можете бути впевнені, купуючи ICP Etching Carrier на нашому заводі, і ми запропонуємо вам найкраще післяпродажне обслуговування та своєчасну доставку. Пластина Semicorex виготовлена з графіту, покритого карбідом кремнію, за допомогою процесу хімічного осадження з газової фази (CVD). Цей матеріал володіє унікальними властивостями, включаючи високу температурну і хімічну стійкість, відмінну зносостійкість, високу теплопровідність, а також високу міцність і жорсткість. Ці властивості роблять його привабливим матеріалом для різноманітних високотемпературних застосувань, включаючи системи травлення з індуктивно зв’язаною плазмою (ICP).
Ми надаємо індивідуальне обслуговування, допомагаємо вам впроваджувати інновації з компонентами, які служать довше, скорочують тривалість циклу та підвищують врожайність.
Semicorex травлення вафельного носія з покриттям CVD SIC-це вдосконалене, високоефективне рішення, призначене для вимогливих застосувань напівпровідникового травлення. Його чудова термічна стійкість, хімічна стійкість та механічна міцність роблять його важливим компонентом у сучасному виготовленні вафель, забезпечуючи високу ефективність, надійність та економічну ефективність для виробників напівпровідників у всьому світі.*
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex SiC ICP Etching Disk — це не просто компоненти; це важливий фактор виробництва передових напівпровідників, оскільки напівпровідникова промисловість продовжує свою невпинну гонитву за мініатюризацією та продуктивністю, попит на передові матеріали, такі як SiC, лише посилюватиметься. Він забезпечує точність, надійність і продуктивність, необхідні для роботи нашого технологічного світу. Ми в Semicorex займаємося виробництвом і постачанням високопродуктивних SiC ICP Etching Disk, які поєднують якість з економічною ефективністю.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex SiC Susceptor for ICP Etch виготовляється з упором на підтримку високих стандартів якості та стабільності. Надійні виробничі процеси, які використовуються для створення цих приймачів, гарантують, що кожна партія відповідає суворим критеріям продуктивності, забезпечуючи надійні та стабільні результати травлення напівпровідників. Крім того, Semicorex може запропонувати швидкі графіки доставки, що має вирішальне значення для того, щоб йти в ногу зі швидкими вимогами напівпровідникової промисловості, забезпечуючи дотримання термінів виробництва без шкоди для якості. Ми в Semicorex націлені на виробництво та постачання високопродуктивних SiC Susceptor для ICP Etch, який поєднує якість з економічною ефективністю.**
ДетальнішеНадіслати запитКомпонент ICP із SiC-покриттям Semicorex розроблено спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки тонкому кристалічному покриттю SiC наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну теплову однорідність і тривалу хімічну стійкість.
ДетальнішеНадіслати запитКоли мова йде про процеси обробки пластин, такі як епітаксія та MOCVD, високотемпературне покриття SiC від Semicorex для камер плазмового травлення є найкращим вибором. Наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість завдяки нашому тонкому кристалічному покриттю SiC.
ДетальнішеНадіслати запитЛоток для плазмового травлення ICP від Semicorex розроблений спеціально для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.
ДетальнішеНадіслати запит