Ви можете бути впевнені, купуючи ICP Etching Carrier на нашому заводі, і ми запропонуємо вам найкраще післяпродажне обслуговування та своєчасну доставку. Пластина Semicorex виготовлена з графіту, покритого карбідом кремнію, за допомогою процесу хімічного осадження з газової фази (CVD). Цей матеріал має унікальні властивості, включаючи стійкість до високих температур і хімічних речовин, чудову зносостійкість, високу теплопровідність, а також високу міцність і жорсткість. Ці властивості роблять його привабливим матеріалом для різноманітних високотемпературних застосувань, включаючи системи травлення з індуктивно зв’язаною плазмою (ICP).
Ми надаємо індивідуальне обслуговування, допомагаємо вам впроваджувати інновації з компонентами, які служать довше, скорочують тривалість циклу та підвищують врожайність.
Компонент ICP із SiC-покриттям від Semicorex розроблено спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки тонкому кристалічному покриттю SiC наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну теплову однорідність і тривалу хімічну стійкість.
ДетальнішеНадіслати запитКоли мова йде про процеси обробки пластин, такі як епітаксія та MOCVD, високотемпературне покриття SiC від Semicorex для камер плазмового травлення є найкращим вибором. Наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість завдяки нашому тонкому кристалічному покриттю SiC.
ДетальнішеНадіслати запитЛоток для плазмового травлення ICP від Semicorex розроблений спеціально для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.
ДетальнішеНадіслати запитНосій Semicorex із покриттям SiC для системи плазмового травлення ICP є надійним і економічно ефективним рішенням для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Наші носії мають тонке кристалічне покриття SiC, яке забезпечує чудову термостійкість, рівномірну теплову однорідність і тривалу хімічну стійкість.
ДетальнішеНадіслати запитТокоприймач із покриттям із карбіду кремнію Semicorex для індуктивно-зв’язаної плазми (ICP) розроблений спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.
ДетальнішеНадіслати запитТримач для пластин із травленням ICP від Semicorex є ідеальним рішенням для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.
ДетальнішеНадіслати запит