Барабанні токоприймачі є важливим компонентом, який використовується в різних процесах виробництва напівпровідників, таких як LPE, MOCVD. Semicorex наносить карбід кремнію високої чистоти тонкими шарами на графіт за допомогою процесу хімічного осадження з парової фази (CVD), що робить матеріал напівпровідникового класу з чудовою термічною стабільністю, хімічною стійкістю та стійкістю до зношування, що робить його ідеальним для використання у високотехнологічних умовах. температурні процеси.
â Високочистий графіт із покриттям SiC
â Чудова термостійкість і хімічна стійкість
â Висока теплова однорідність
â Відмінна зносостійкість
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor — це ретельно розроблений компонент, спеціально розроблений для передових процесів виробництва напівпровідників, зокрема для епітаксії. Наші продукти мають гарну цінову перевагу та охоплюють більшість європейських та американських ринків. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite — це спеціальний компонент, розроблений для використання в процесі епітаксії, зокрема для перенесення пластин. Зв’яжіться з нами сьогодні, щоб дізнатися більше про те, як ми можемо допомогти вам із вашими потребами в обробці напівпровідникових пластин.
ДетальнішеНадіслати запитСтволовий привід Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth — це високоефективний продукт, розроблений для стабільної та надійної роботи протягом тривалого періоду часу. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для нарощування високоякісних епітаксійних шарів на пластинчастих чіпах. Можливість налаштування та економічна ефективність роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy — це високоякісний продукт, який забезпечує чудову адгезію покриття, високу чистоту та стійкість до окислення при високій температурі. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для нарощування епіксіальних шарів на пластинчастих чіпах. Його економічна ефективність і можливість налаштування роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.
ДетальнішеНадіслати запитReactor System для рідкофазної епітаксії (LPE) Semicorex — це інноваційний продукт, який забезпечує відмінні теплові характеристики, рівномірний тепловий профіль і чудову адгезію покриття. Його висока чистота, стійкість до високотемпературного окислення та стійкість до корозії роблять його ідеальним вибором для використання в напівпровідниковій промисловості. Його настроювані параметри та економічна ефективність роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor — це дуже міцний і надійний продукт для вирощування епіксіальних шарів на пластинчастих чіпах. Його стійкість до високотемпературного окислення та висока чистота роблять його придатним для використання в напівпровідниковій промисловості. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для високоякісного росту епіксіального шару.
ДетальнішеНадіслати запит