Душова лійка SiC (карбід кремнію) — це спеціалізований компонент, який використовується в різних промислових процесах, зокрема у виробництві напівпровідників. Він призначений для рівномірного та точного розподілу та доставки технологічних газів під час процесів хімічного осадження з парової фази (CVD) та епітаксійного росту.
Душова лійка має форму диска або пластини з кількома рівномірно розподіленими отворами або соплами на її поверхні. Ці отвори служать вихідними отворами для технологічних газів, що дозволяє впорскувати їх у технологічну камеру або реакційну камеру. Розмір, форма та розподіл отворів можуть змінюватися залежно від конкретного застосування та вимог процесу.
Однією з ключових переваг використання душової лійки SiC є її чудова теплопровідність. Ця властивість забезпечує ефективну теплопередачу та рівномірний розподіл температури по всій поверхні душової лійки, запобігаючи появі гарячих точок і забезпечуючи стабільні умови процесу. Покращена теплопровідність також забезпечує швидке охолодження душової лійки після процесу, мінімізуючи час простою та підвищуючи загальну продуктивність.
Душові насадки SiC дуже міцні та стійкі до зношування, навіть під час тривалого впливу корозійних газів і високих температур. Ця довговічність перетворюється на подовжені інтервали технічного обслуговування та скорочення часу простою обладнання, що призводить до економії коштів і підвищення надійності процесу.
На додаток до міцності душові лійки SiC пропонують відмінні можливості розподілу газу. Точно сконструйовані шаблони та конфігурації отворів забезпечують рівномірний потік газу та його розподіл по поверхні підкладки, сприяючи стабільному осадженню плівки та покращенню продуктивності пристрою. Рівномірний розподіл газу також допомагає мінімізувати варіації товщини плівки, складу та інших критичних параметрів, сприяючи покращенню контролю процесу та виходу.
Semicorex пропонує напівпровідникову насадку з низьким питомим опором із спеченого карбіду кремнію. Ми маємо можливість розробляти та постачати передові керамічні матеріали на замовлення, використовуючи різноманітні унікальні можливості.
Трубка дифузійної печі Semicorex є ключовим компонентом обладнання для виробництва напівпровідників, спеціально розробленим для забезпечення точних і контрольованих реакцій, необхідних для процесів виробництва напівпровідників. Будучи основним резервуаром у реакційній зоні напівпровідникової печі, трубка дифузійної печі відіграє ключову роль у забезпеченні цілісності та якості виготовлених напівпровідникових пристроїв. Semicorex прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
ДетальнішеНадіслати запитДушова насадка Semicorex CVD-SiC забезпечує довговічність, чудове управління температурою та стійкість до хімічного розкладання, що робить її підходящим вибором для вимогливих процесів CVD у напівпровідниковій промисловості. Semicorex прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
ДетальнішеНадіслати запитУ плазмовому апараті для травлення та хімічного осадження з парової фази (CVD) матеріалів на пластинах технологічні гази подаються в технологічну камеру через графітову насадку з CVD SiC покриттям. Semicorex прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
ДетальнішеНадіслати запит