Китай Спеціальний графіт Виробники, постачальники, фабрика

Спеціальний графіт - це своєрідний штучний графіт, який обробляється. Це важливий матеріал, який незамінний у всіх аспектах напівпровідникового та фотоелектричного виробничого процесу, включаючи ріст кристалів, імплантацію іонів, епітаксію тощо.

1. КРИСТАЛЬНИЙ КРАБІД (SIC) Зростання кристалів

Карбід кремнію, як напівпровідниковий матеріал третього покоління, широко використовується в нових енергетичних транспортних засобах, комунікаціях 5G та інших галузях. У 6-дюймовому та 8-дюймовому процесі росту кристалів SIC ізостатичний графіт використовується насамперед для виготовлення таких компонентів ключів:

Графітовий тигель: Це може бути використане для синтезу порошку SIC, а також сприяє зростанню кристалів при високих температурах. Його висока чистота, високотемпературна стійкість та стійкість до теплового удару забезпечують стабільне середовище росту кристалів.

Графітовий нагрівач: Це забезпечує рівномірний розподіл тепла, забезпечуючи високоякісний ріст кристалів SIC.

Ізоляційна трубка: Це підтримує рівномірність температури в печі росту кристалів і зменшує втрати тепла.

2. Іонна імплантація

Іонна імплантація є ключовим процесом у виробництві напівпровідників. Ізостатичний графіт в основному використовується для виготовлення таких компонентів в іонних імплантерах:

Графітовий геттер: Це поглинає іони домішок у іонному проміні, забезпечуючи чистоту іонів.

Графітове фокусування кільця: Це фокусує іонний промінь, покращуючи точність та ефективність іонних імплантатів. Графітові підноси для підкладки: використовуються для підтримки кремнієвих вафель та підтримки стабільності та узгодженості під час іонної імплантації.

3. Процес епітакси

Процес епітакси є критичним кроком у виробництві напівпровідникових пристроїв. Істостично пресований графіт використовується насамперед для виготовлення таких компонентів у епітакси -печах:

Графітові лотки та чутки: використовуються для підтримки кремнієвих вафель, забезпечуючи стабільну підтримку та рівномірну тепловіддача під час процесу епітакси.

4. Інші напівпровідникові виробничі програми

Істостично натисканий графіт також широко використовується в наступних напівпровідникових виробничих програмах:

Процес травлення: використовується для виготовлення графітових електродів та захисних компонентів для етчерів. Його корозійна стійкість та висока чистота забезпечують стабільність та точність у процесі травлення.

Хімічне осадження пари (CVD): використовується для виготовлення графітових лотків та обігрівачів у печах ССЗ. Його висока теплопровідність та високотемпературна опір забезпечують рівномірне осадження тонкої плівки.

Тестування упаковки: Використовується для виготовлення тестових світильників та підносів для носія. Його висока точність та низьке забруднення забезпечують точні результати випробувань.

Переваги графітових деталей

Висока чистота:

Використовуючи ізостатично натисканий графітовий матеріал з надзвичайно низьким вмістом домішок, він відповідає суворим вимогам до чистоти матеріалу виготовлення напівпровідників. Власна очищена піч компанії може очистити графіт до нижче 5ppm.

Висока точність:

Завдяки вдосконаленій технології обробки та зрілої технології обробки, це гарантує, що розмірна точність та толерантність до форми та положення досягає рівня Micron.

Висока продуктивність:

Продукт має відмінну високотемпературну стійкість, корозійну стійкість, радіаційну стійкість, високу теплопровідність та інші властивості, що відповідає різним суворим умовам праці напівпровідникового виробництва.

Індивідуальна послуга:

Індивідуальні послуги з дизайну та обробки продуктів можуть бути надані відповідно до потреб клієнтів для задоволення потреб різних сценаріїв додатків.

Типи графітових продуктів

(1) ізостатичний графіт
Ізостатичні графітові вироби виробляються холодним ізостатичним пресуванням. Порівняно з іншими методами формування, тиглі, вироблені цим процесом, мають чудову стабільність. Графітові продукти, необхідні для монокристалів SIC, мають великі розміри, що призведе до нерівномірної чистоти на поверхні та всередині графітових продуктів, які не можуть відповідати вимогам використання. Для того, щоб відповідати вимогам глибокого очищення графітових продуктів великого розміру, необхідних для монокристалів SIC, слід прийняти унікальний високотемпературний процес очищення термохімічного імпульсу для досягнення глибокого та рівномірного очищення великого розміру або спеціальних у формах графітових продуктів, щоб чистота поверхні продукту та ядра могли відповідати вимогам використання.

(2) Пористий графіт
Пористий графіт - це тип графіту з високою пористістю та низькою щільністю. У процесі росту кристалів SIC пористий графіт відіграє значну роль у поліпшенні рівномірності масової передачі, знижуючи швидкість виникнення зміни фаз та покращення форми кристала.
Використання пористого графіту покращує рівномірність температури та температури області сировини, збільшує різницю в осьовій температурі у тиглі, а також має певний вплив на послаблення перекристалізації поверхні сировини; У камері росту пористий графіт покращує стабільність потоку матеріалу протягом усього процесу росту, збільшує співвідношення C/Si області росту, допомагає зменшити ймовірність зміни фази, і в той же час пористий графіт також відіграє роль у поліпшенні кристалічного інтерфейсу.

(3) Фет
М'який фетер і жорсткий фетер відіграють роль важливих теплоізоляційних матеріалів у росту кристалів SIC та епітаксіальних зв'язків.

(4) Графітова фольга
Графітовий папір-це функціональний матеріал, виготовлений з графіту з високим вмістом вуглецю за допомогою хімічної обробки та високотемпературного кочення. Він має високу теплопровідність, електричну провідність, гнучкість та резистентність до корозії.

(5) Композитні матеріали
Термічне поле з вуглецю-одне з основних витратних матеріалів у фотоелектричному виробництві монокристалічної печі.

Виробництво Semicorex

Semicorex виготовляє графіт з невеликими партіями, індивідуальними методами виробництва. Виробництво невеликої партії робить продукцію більш контрольованою. Весь процес контролюється програмованими логічними контролерами (PLC), були записані детальні дані про процеси, що дозволяє повну відстеження життєвого циклу.

Протягом усього процесу смаження консистенція, досягнута в опорі в різних місцях, і підтримується жорсткий контроль температури. Це забезпечує однорідність та надійність графітових матеріалів.

Semicorex використовує повністю ізостатичну прес -технологію, яка відрізняється від інших постачальників; Це означає, що графіт є ультрабічним і є особливо важливим для епітаксіальних процесів. Були проведені комплексні тести на рівномірність матеріалу, включаючи щільність, опір, твердість, міцність на вигин та міцність у різних зразках.