TSMC: пробне виробництво з ризиком 2-нм процесу наступного року

У своєму нещодавно опублікованому річному звіті голова TSMC Дейін Лю та генеральний директор Чіе-Цзя Вей розкрили прогрес, пов’язаний з процесом 2 нм.
Згідно з листом до акціонерів, минулого року вони збільшили свої зусилля в дослідженнях і розробках, працюючи над технологією, особливо 2-нм процесом, витративши 5,47 мільярда доларів на дослідження і розробки, щоб розширити своє технологічне лідерство та диференціацію.
Для 2-нм процесу TSMC використовуватиме структуру нанолистового транзистора з покращеною продуктивністю та енергоефективністю. Порівняно з процесом N3E, 2-нм процес збільшить швидкість на 10%-15% при тому самому споживанні енергії або зменшить споживання енергії на 25%-30% при тій же швидкості, щоб задовольнити зростаючий попит на енергоефективне обчислення.
Наразі розробка 2-нм процесу просувається за планом, із ризикованим пілотним виробництвом у 2024 році та масовим виробництвом у 2025 році.