ESC Чак

Патрон Semicorex ESC використовує електростатичні сили для підтримки точного контролю над положенням пластини, забезпечуючи високу точність і повторюваність у середовищі виробництва напівпровідників. Конструкція патрона ESC у поєднанні з надійним вибором матеріалу та настроюваними розмірами робить його універсальним і важливим інструментом у таких процесах, як травлення, осадження та іонна імплантація.

Патрон ESC працює шляхом застосування електростатичного поля високої напруги між електродами патрона та пластиною, створюючи силу притягання, яка утримує пластину на місці. Пластина, як правило, виготовлена ​​з кремнію або карбіду кремнію, закріплена цією силою, що дозволяє виконувати точні операції в середовищах із високим вакуумом. Ця система усуває потребу в механічному затисканні або вакуумному затисканні, через які можуть потрапити забруднення або деформуватися пластина. Використовуючи патрон ESC, виробники можуть досягти більш чистого та стабільнішого середовища для делікатних процесів виготовлення, що призводить до вищих врожаїв і стабільніших результатів.

Однією з ключових переваг технології ESC є її здатність міцно тримати пластину, рівномірно розподіляючи зусилля по її поверхні. Це гарантує, що пластина залишається плоскою та стабільною, що є вирішальним для досягнення рівномірного травлення або осадження, особливо в процесах, де потрібна субмікронна точність. Настроювані розміри патрона ESC дозволяють вміщувати пластини різних розмірів, від стандартних пластин 200 мм і 300 мм до спеціалізованих, нестандартних розмірів, які використовуються в дослідженнях і розробках або у виробництві нішевих напівпровідникових пристроїв.

Матеріали, які використовуються в конструкції патрона ESC, ретельно відібрані для забезпечення сумісності з жорсткими умовами, які зазвичай зустрічаються при обробці напівпровідників. Високочистий керамічний глинозем використовується завдяки його чудовим електроізоляційним властивостям, термостійкості та стійкості до плазмової корозії. Ці властивості дозволяють патрону ефективно працювати як в умовах високої температури, так і в умовах високого вакууму, забезпечуючи довговічність і надійність, необхідні для тривалого використання в середовищі чистих приміщень.

Налаштування є ще однією важливою перевагою патронів ESC. Залежно від конкретних вимог процесу виготовлення напівпровідників, розміри патрона, конфігурації електродів і композиції матеріалів можуть бути адаптовані відповідно до унікальних потреб обладнання та пластин, що обробляються. Незалежно від того, чи передбачає застосування плазмове травлення, хімічне осадження з парової фази (CVD) або фізичне осадження з парової фази (PVD), патрон ESC може бути розроблений для оптимізації продуктивності та підтримки цілісності пластини під час обробки.