Новини

Гомоепітаксія та гетероепітаксія пояснюються просто

Гомоепітаксія та гетероепітаксія відіграють ключову роль у матеріалознавстві. Гомоепітаксія передбачає нарощування кристалічного шару на підкладці з того самого матеріалу, що забезпечує мінімальні дефекти завдяки ідеальному узгодженню решітки. Навпаки, гетероепітаксія вирощує кристалічний шар на під......

Що таке низькотемпературне плазмове травлення?

Плазма є четвертим станом речовини, і вона відіграє вирішальну роль як у промисловому застосуванні, так і в природних явищах.

Структура електростатичного патрона (ESC)

Електростатичний патрон (ESC) — це пристрій, який використовується для утримання напівпровідникових пластин під час таких процесів, як травлення, осадження або полірування.

Wolfspeed призупиняє плани будівництва німецького заводу з виробництва напівпровідників

Згідно з повідомленнями німецьких ЗМІ, американський виробник мікросхем Wolfspeed призупиняє свої плани з будівництва заводу з виробництва напівпровідників у Німеччині.

Як виготовляється карбід кремнію?

Остаточне полірування поверхні кремнієвої пластини

Щоб досягти вимог до високої якості процесів схем IC з шириною лінії менше ніж 0,13 мкм до 28 нм для кремнієвих полірувальних пластин діаметром 300 мм, важливо звести до мінімуму забруднення поверхні пластини такими як іони металів.