Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor — це дуже міцний і надійний продукт для вирощування епіксіальних шарів на пластинчастих чіпах. Його стійкість до високотемпературного окислення та висока чистота роблять його придатним для використання в напівпровідниковій промисловості. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для високоякісного росту епіксіального шару.
ДетальнішеНадіслати запит