Кремнієвий постамент

1. Кремнієвий п’єдестал Semicorex, що стабілізує середовище обробки для отримання оптимальних результатів:

Створення стабільної основи для кришталевих човнів:Кремнієвий п’єдестал забезпечує міцну та термічно стабільну платформу для кремнієвих човнів у камері високотемпературної печі. Ця стабільність гарантує, що човни зберігають своє положення та орієнтацію протягом усього процесу, запобігаючи небажаним рухам або нахилам, які можуть порушити динаміку газового потоку та порушити рівномірність температури.

Підвищення рівномірності температури в реакційній камері:Ефективно ізолюючи силіконовий човен від дна та стін печі, кремнієвий п’єдестал мінімізує втрати тепла через провідність і сприяє більш рівномірному розподілу температури в термореакційній трубі. Ця розширена здатність управління температурою має вирішальне значення для досягнення стабільних і повторюваних профілів дифузії або окислення по всій поверхні пластини.

Підвищення ефективності ізоляції для оптимального використання енергії:Властиві теплоізоляційні властивості Silicon Pedestal сприяють більш енергоефективному процесу за рахунок мінімізації втрат тепла в навколишнє середовище. Це означає швидші цикли нагрівання та охолодження, зниження споживання енергії та, зрештою, нижчі загальні витрати на обробку.

2. Синергія матеріалів для чудової якості пластин:

Відповідне теплове розширення для зменшення напруги пластини:Кремнієвий п’єдестал, виготовлений з того самого високочистого кремнієвого матеріалу, що й самі човни та пластини, пропонує вирішальну перевагу перед альтернативними матеріалами, такими як кварц або карбід кремнію. Ця синергія матеріалів гарантує, що п’єдестал, човен і пластини розширюються та стискаються з майже однаковою швидкістю під час циклів нагрівання та охолодження, зводячи до мінімуму ризик термічного стресу, викривлення пластин і кристалографічних дефектів, які можуть негативно вплинути на продуктивність і продуктивність пристрою.

Зведення до мінімуму забруднення та невідповідності решітки:Використання кремнію високої чистоти як для кремнієвої підставки, так і для човна усуває можливість забруднення різними матеріалами, забезпечуючи незаймане середовище для обробки пластин. Ця сумісність матеріалів також мінімізує ризик невідповідності ґраток на межі пластини та човника, що ще більше сприяє покращенню якості кристала та зменшенню щільності дефектів.