Вакуумний патрон Semicorex Al2O3 призначений для задоволення суворих вимог різноманітних процесів виробництва напівпровідників, включаючи розрідження, нарізання, очищення та транспортування пластин. **
Застосування у виробництві напівпровідників
Вакуумний патрон Semicorex Al2O3 — це універсальний інструмент, який використовується на багатьох етапах виробництва напівпровідників:
Розрідження: під час процесу розрідження пластини вакуумний патрон Al2O3 забезпечує стабільну та рівномірну підтримку, забезпечуючи високоточне зменшення підкладки. Це має вирішальне значення для покращення розсіювання тепла мікросхеми та підвищення продуктивності пристрою.
Нарізання кубиками: на стадії нарізання кубиками, коли вафлі нарізаються на окремі шматочки, вакуумний патрон Al2O3 забезпечує надійну та стабільну адсорбцію, мінімізуючи ризик пошкодження та гарантуючи чисті розрізи.
Очищення: гладка та рівномірна адсорбційна поверхня вакуумного патрона Al2O3 робить його придатним для процесів очищення пластин, забезпечуючи ефективне видалення забруднень без пошкодження пластин.
Транспортування: під час обробки та транспортування пластини вакуумний патрон Al2O3 забезпечує надійну та надійну підтримку, знижуючи ризик пошкодження та забруднення.
НапівкорексВакуумЧак Флоу
Переваги вакуумного патрона Semicorex Al2O3
1. Уніфікована мікропориста керамічна технологія
Вакуумний патрон Al2O3 виготовлено за технологією мікропористої кераміки, яка передбачає використання нанопорошків однакового розміру. Ця технологія гарантує, що пори рівномірно розподіляються і з’єднуються між собою, що забезпечує високу пористість і рівномірну щільну структуру. Ця рівномірність покращує продуктивність вакуумного патрона, забезпечуючи стабільну та надійну підтримку пластин.
2. Виняткові властивості матеріалу
Ультрачистий 99,99% глинозем (Al2O3), який використовується у вакуумному патроні Al2O3, має низку виняткових властивостей:
Теплові властивості: завдяки високій термостійкості та відмінній теплопровідності, вакуумний патрон Al2O3 може витримувати високі температури, які зазвичай зустрічаються у виробництві напівпровідників.
Механічні властивості: висока міцність і твердість глинозему гарантують, що вакуумний патрон Al2O3 міцний і стійкий до зношування, забезпечуючи тривалу роботу.
Інші властивості: Оксид алюмінію також забезпечує високу електроізоляцію та стійкість до корозії, що робить вакуумний патрон Al2O3 придатним для широкого діапазону виробничих середовищ.
3. Покращена площинність і паралельність
Однією з ключових переваг вакуумного патрона Al2O3 є його висока площинність і паралельність. Ці властивості мають вирішальне значення для забезпечення точного та стабільного поводження з пластинами, мінімізації ризику пошкодження та забезпечення стабільних результатів обробки. Крім того, хороша повітропроникність і рівномірна сила адсорбції вакуумного патрона Al2O3 забезпечують плавну та надійну роботу.
4. Параметри налаштування
У Semicorex ми розуміємо, що кожен процес виробництва напівпровідників має унікальні вимоги. Ось чому ми пропонуємо індивідуальні вакуумні патрони, розроблені відповідно до ваших конкретних потреб. Залежно від необхідної площинності та витрат на виробництво ми рекомендуємо різні основні матеріали, гарантуючи, що вага та продуктивність вакуумного патрона оптимізовані для вашого застосування. Ці матеріали включають нержавіючу сталь SUS430, алюмінієвий сплав 6061, щільну глиноземну кераміку (кольору слонової кістки), граніт і щільну кераміку з карбіду кремнію.
Al2O3 Вакуумний патрон Вимірювання ШМ