Керамічний вакуумний патрон Semicorex Alumina застосовується в процесах тоншення та шліфування пластин у виробництві напівпровідників, слугуючи незамінним інструментом для досягнення високоточного та надійного виробництва напівпровідників.**
Керамічний вакуумний патрон із глинозему Semicorex відіграє важливу роль на етапах тоншення та шліфування пластин у виробництві напівпровідників. Ці етапи передбачають ретельне зменшення товщини підкладки пластини для покращення розсіювання тепла мікросхеми, що життєво важливо для підвищення ефективності та довговічності напівпровідникових пристроїв. Розрідження пластин до точних специфікацій також має вирішальне значення для полегшення передових технологій пакування.
Сумісність із декількома розмірами пластин
Керамічний вакуумний патрон із оксиду алюмінію призначений для підтримки широкого діапазону розмірів пластин, включаючи 2, 3, 4, 5, 6, 8 і 12 дюймів. Ця адаптивність робить його придатним для широкого спектру середовищ виробництва напівпровідників, забезпечуючи послідовну та надійну роботу пластин різних розмірів.
Чудовий склад матеріалу
Основа глиноземного керамічного вакуумного патрона виготовлена з ультрачистого 99,99% глинозему (Al2O3), який забезпечує виняткову стійкість до хімічних впливів і термічну стабільність. Адсорбційна поверхня виконана з пористого карбіду кремнію (SiC). Компактна і рівномірна структура пористого керамічного матеріалу підвищує його міцність і продуктивність.
Переваги технології мікропористої кераміки
Покращена площинність і паралельність: керамічний вакуумний патрон з мікропористого оксиду алюмінію забезпечує виняткову площинність і паралельність, забезпечуючи точне поводження з пластинами та стабільність.
Оптимальна пористість і повітропроникність: добре розподілені мікропори забезпечують чудову повітропроникність і рівномірну адсорбційну силу, що забезпечує плавну та стабільну роботу.
Чистота матеріалу та довговічність: виготовлений із 99,99% чистого глинозему, наш глиноземний керамічний вакуумний патрон стійкий до хімічних впливів і забезпечує чудову термічну стабільність, що робить його придатним для вимогливих виробничих умов.
Настроювані дизайни: ми пропонуємо різноманітні настроювані форми, включаючи круглі, квадратні, петельні та L-подібні дизайни, з параметрами товщини від 3 мм до 10 мм. Це налаштування гарантує, що наш глиноземний керамічний вакуумний патрон відповідає конкретним потребам різних процесів виробництва напівпровідників.
Різноманітні варіанти основного матеріалу: ґрунтуючись на вимогах до площинності та вартості виробництва, ми надаємо рекомендації для різних основних матеріалів, таких як нержавіюча сталь SUS430, алюмінієвий сплав 6061, щільна глиноземна кераміка (кольору слонової кістки), граніт і щільна кераміка з карбіду кремнію. Кожен матеріал вибрано для оптимізації ваги та продуктивності глиноземно-керамічного вакуумного патрона.