Склоподібне вуглецеве покриття Фетч

Запрошення вуглецевого покриття Semicorex діє як внутрішній ізоляційний шар в епітаксіальних реакторах карбіду кремнію. Це високоефективний ізоляційний матеріал, призначений для вдосконалених теплових середовищ. Цей продукт долає типові напівпровідникові високотемпературні виклики виробництва, пропонуючи чудові рішення завдяки його легкій та відмінною теплоізоляцією властивостейграфітовий фетер, у поєднанні з цілісністю поверхні та хімічною інертністю, наданою скляним вуглецевим покриттям.

Базовий матеріал - це висока чистотаграфітовий фетерВибрав для його низької термічної провідності високої стійкості та легкої ваги. Звичайний графітовий фетер зазвичай має проливання поверхневих волокон і генерація частинок при підвищеній температурі, що може забруднити процесом процесу в чутливих епітаксіальних системах. Для пом'якшення цієї проблеми поверхня графітового фетру рівномірно покрита шаром склоподібного вуглецю-щільною, непоринною формою вуглецю, відомим своєю хімічною інертністю, низькою проникністю газу та винятковою термічною стійкістю.

Склоподібний вуглець-це некорафізований вуглець, який поєднує властивості скла та кераміки. На відміну від кристалічного графіту, це аморфний, майже 100% гібридизований вуглецевий матеріал SP2, який утворюється за допомогою високотемпературного спікання полімеризованих органічних попередників, таких як фенольна смола, фурфурилова смола алкоголю тощо, в атмосфері інертного газу. Оскільки він чорний на всій території і має гладку поверхню, схожу на скло, його називають склоподібним вуглецем.

Склоподібне вуглецеве покриття може усунути генерацію частинок печі, забезпечити герметичні поверхневі пори, мати чудові властивості депозиції та зменшити проникність, що робить цей матеріал дуже придатним для безперервного лиття форми та продуктів у напівпровідниковій галузі. Цей матеріал має широкий спектр застосувань у напівпровідниковій промисловості, особливо в графітових частинах, таких як компоненти монокристалічного кремнієвого обладнання, компоненти епітаксіального росту, форми безперервного лиття, герметичні джиги скла тощо.

Склоподібний вуглець має високу температурну стійкість до 3000 ° С при інертному газі або вакуумі, і на відміну від усіх інших керамічних та металевих матеріалів високої температури, міцність склоподібного вуглецю збільшується зі збільшенням температури до 2700 к, і він не стає крихким і має надзвичайно високу стійкість до термічного удару, тому короткий нагрівання та охолодження не є проблемою. Крім того, склоподібний вуглець має низьку масу, низьке поглинання тепла та низьке теплове розширення, тому він підходить майже для всіх застосувань з високою температурою.

Склоподібне вуглецеве покриття відіграє вирішальну роль у герметизації поверхневих пір графітового фетру, значно зменшуючи вивільнення частинок та вуглецевий пил під час роботи. Це особливо важливо в процесах росту Epitaxial SIC, де навіть мінімальне забруднення може поставити під загрозу якість вафель та продуктивність пристрою. За допомогою інкапсуляції пористої структури фетру гладкою жорсткою склоподібною вуглецевою оболонкою покриття забезпечує чисте та стабільне теплове середовище всередині реакційної камери.

Ключові переваги склоподібного вуглецевого покриття включають:

Знижене проливання частинок: щільне покриття ефективно замикає пухкі волокна та частинки, запобігаючи забрудненню вафель та компонентів реактора.

Висока термічна стійкість: як графітовий фетровий, так і склоподібний вуглець можуть витримати температури, що перевищують 2000 ° C в інертній або вакуумній атмосфері, що робить продукт ідеальним для високотемпературних процесів СІК.

Хімічна інертність: поверхня склоподібної вуглецю стійка до більшості кислот та корозійних газів, що продовжує експлуатаційний термін ізоляційного шару в суворих умовах.

Поліпшена узгодженість процесу: мінімізоване генерація частинок сприяє більш стабільному та повторюваному епітаксіальному середовищу росту, що є важливим для виробництва високоякісних SIC вафель.

Застосування склоподібного вуглецевого покриття відчувається, головним чином, до печей з епітаксіального росту SIC, де воно використовується як теплоізоляційний шар у гарячій зоні. Продукт, як правило, встановлюється як підкладка у верхній або нижній ізоляційній стеках, де він забезпечує як тепловий захист, так і забезпечення чистоти.