Пластини монокристалічного кремнію

Монокристалічні кремнієві пластини, виготовлені з чудового монокристалічного кремнію високої чистоти, забезпечують виняткову площинність, низьку щільність дефектів і чудову якість. Semicorex надає пріоритет потребам клієнтів і прагне надавати рішення для пластин преміум-класу, необхідні для передової напівпровідникової промисловості.

Надіслати запит

Опис продукту

Стандарт <10 мкм, максимальні можливості <5 мкммонокристалічні кремнієві пластини, метод Чохральського (CZ) використовується для виробництва монокристалічних кремнієвих стрижнів із повною структурою та надзвичайно низьким вмістом домішок

вміст. Потім ці монокристалічні кремнієві стрижні проходять точну обробку, таку як різання, шліфування, полірування та очищення, для виготовлення монокристалічних кремнієвих пластин. Ці монокристалічні кремнієві пластини мають високу чистоту, особливо пластини на рівні IC, який може досягати понад 9N (99,9999999%), ефективність, що забезпечує відмінні електричні характеристики.

Монокристалічний кремній займає понад 90% ринку напівпровідникових матеріалів. На даний момент це найважливіший напівпровідниковий матеріал, який широко використовується в інформаційних технологіях і виробництві інтегральних схем.

Області застосування:

1. високопродуктивні логічні мікросхеми (такі як CPU, GPU, FPGA), мікросхеми пам’яті (такі як DRAM, NAND Flash), аналогові мікросхеми (такі як ADC і DAC) у промисловості виробництва інтегральних схем.

2. Електронні пристрої високого класу (такі як датчики зображення CMOS (CIS) і датчики MEMS) у галузі інформаційних технологій.

Специфікація пластин:

Діаметр	2"	3"	4"	5"	6"	8"	12"
Метод зростання	Чохральський (CZ)
Тип/Допант	Стандарт <40 мкм, Максимальні можливості <20 мкм
Товщина (мкм)	279	380	525	625	675	725	775
Толерантність до товщини	Стандарт ± 25 мкм, максимальні можливості ± 5 мкм					± 20 мкм	± 20 мкм
TTV (мкм)	Стандарт <10 мкм, максимальні можливості <5 мкм
Лук/деформація (мкм)	монокристалічні кремнієві пластини					<40 мкм	<40 мкм