- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Новини компанії
Плазмові процеси в CVD операціях
Хімічне осадження з парової фази (CVD) відноситься до технології процесу, де кілька газоподібних реагентів при різних парціальних тисках піддаються хімічній реакції за певних умов температури та тиску. Отримана тверда речовина осідає на поверхні матеріалу підкладки, тим самим отримуючи бажану тонку ......
Детальніше
Кремнієві епітаксіальні шари та підкладки у виробництві напівпровідників
У сучасній електроніці, оптоелектроніці, мікроелектроніці та інформаційних технологіях напівпровідникові підкладки та епітаксіальні технології є незамінними. Вони забезпечують міцну основу для виробництва високопродуктивних, високонадійних напівпровідникових приладів. У міру розвитку технологій напі......
Детальніше
Перша компанія з індустріалізації 6-дюймової підкладки з оксиду галію
Нещодавно наша компанія оголосила, що компанія успішно розробила 6-дюймовий монокристал оксиду галію за допомогою методу лиття, ставши першою національною індустріальною компанією, яка освоїла технологію підготовки підкладки 6-дюймового монокристалу оксиду галію.
Детальніше
Теплоізоляційний матеріал
Процес росту монокристалічного кремнію переважно відбувається в тепловому полі, де якість теплового середовища значно впливає на якість кристала та ефективність росту. Конструкція теплового поля відіграє ключову роль у формуванні температурних градієнтів і динаміки газового потоку в камері печі. Крі......
Детальніше
