Млинцевий токоприймач Semicorex для епітаксійного процесу пластин є графітовою основою високої чистоти, покритою CVD SiC. Наш млинцевий приймач для епітаксійного процесу пластин має хорошу цінову перевагу та охоплює більшість європейських та американських ринків. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
Вафельна епітаксія — це техніка, яка використовується для вирощування високоякісних кристалічних плівок на напівпровідниковій підкладці. Це передбачає розміщення підкладки всередині камери реактора та піддавання її контрольованому середовищу, де потрібний матеріал наноситься шар за шаром.
Млинцевий токоприймач для епітаксійного процесу пластини — це кругла форма графітового токоприймача, який використовується в різних напівпровідникових процесах, таких як хімічне осадження з парової фази (CVD) або фізичне осадження з парової фази (PVD), для підвищення рівномірності температури та сприяння росту плівки.