SOI вафельний кремнієвий ізолятор

Semicorex SOI Wafer Silicon On Insulator — це спеціалізований тип напівпровідникової пластини, яка використовується у виробництві передових інтегральних схем. Вони призначені для підвищення продуктивності, енергоефективності та надійності електронних пристроїв. Semicorex прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

Пластина SOI Silicon On Insulator, також відома як пластина Silicon-On-Insulator, — це тип напівпровідникової пластини, яка широко використовується у виробництві передових інтегральних схем (ІС). Він пропонує кілька переваг перед традиційними масовими кремнієвими пластинами, що робить його популярним вибором у напівпровідниковій промисловості.

Структура кремнієвого ізолятора SOI Wafer Silicon On Insulator складається з трьох основних шарів: тонкого шару кремнію (шар пристрою), шару ізоляційного матеріалу (коробка) і об’ємного шару кремнієвої основи (ручка).

Ізоляційний шар у SOI Wafer Silicon On Insulator пропонує кілька переваг. По-перше, це зменшує паразитну ємність між транзисторами, в результаті чого покращується продуктивність схеми та підвищується швидкість роботи. Ця зменшена ємність також допомагає знизити енергоспоживання, роблячи пристрої SOI придатними для енергоефективних застосувань.

Крім того, ізоляційний шар забезпечує електричну ізоляцію між активними пристроями, зменшуючи перехресні перешкоди та покращуючи цілісність сигналу у високочастотних ланцюгах. Це особливо вигідно в радіочастотних (РЧ) і аналогових програмах, де якість сигналу має вирішальне значення.

Ще однією перевагою SOI Wafer Silicon On Insulator є їх радіаційна стійкість. Ізоляційний шар діє як природний щит від радіаційних впливів, роблячи пристрої SOI більш стійкими до радіаційного ураження. Ця властивість робить технологію SOI придатною для аерокосмічних, ядерних та інших середовищ із високим рівнем радіації.