Компоненти з покриттям TaC при епітаксіальному зростанні

Компоненти з покриттям Semicorex TaC в епітаксіальному зростанні є прямокутною частиною у формі труби, яка в основному відповідає за потік повітря в печі CVD. Таким чином, це важливий компонент, і в суворих умовах навколишнього середовища висока температура, а також є корозійні гази. Це пояснює причину, чому ми обираємо графіт із покриттям TaC.

ПеревагиПокриття з карбіду танталу (TaC).

Покриття з карбіду танталу (TaC) необхідні для деяких із найбільш важливих частин систем повітрозабірника, призначених для використання в суворих умовах, наприклад, у печі хімічного осадження з парової фази (CVD). Висока температура та вплив корозійних газів у CVD-печі створюють дуже складне робоче середовище. Завдяки потенціалу забезпечення відмінної хімічної інертності та опору корозії та деградації, використання покриттів TaC на компонентах з покриттям TaC для повітрозабірника під час епітаксіального росту значно зменшить потенціал для створення дефектних частинок, таким чином подовжуючи термін служби компонента та забезпечуючи найвищий вихід і якість зібраних плівок епітелію.

Досконалість технології нанесення покриттів

Для виробництва Semicorex використовується передова технологія CVDКомпоненти з покриттям TaC при епітаксіальному зростанніщоб відповідати найвимогливішим галузевим стандартам сучасності щодо продуктивності та якості. Точність, з якою Semicorex виготовляє покриття TaC, очевидна через високу якість виготовлених покриттів.

Оптимізований вибір основи

Продуктивність деталі з покриттям фундаментально пов’язана з якістю її основи. Вибір найбільш підходящого графітового основного матеріалу для прямокутних труб Semicorex із покриттям TaC ретельно здійснюється нашою командою інженерів, дотримуючись ряду важливих критеріїв, а саме:

Ми вибираємо сорт графіту на основі його фізичних властивостей, щоб досягти найміцнішого зв’язку між покриттям TaC і графітовою підкладкою. Це забезпечує максимальну адгезію покриття TaC до графітової основи.

Графіт, який використовується для виготовлення наших прямокутних трубок із покриттям TaC, має бути надзвичайно високої чистоти, щоб звести до мінімуму можливість виділення газів і забруднення під час нашого високотемпературного процесу CVD.

Наші суворі процеси закупівлі та контролю якості гарантують, що кожна партія графітової підкладки, яку ми використовуємо, має однакові характеристики матеріалу. Це дозволяє нам виготовляти прямокутну трубку з TaC-покриттям щоразу з однаковими характеристиками.

Перевірена надійність і партнерство

Наші компоненти з покриттям TaC для епітаксійного росту були ретельно протестовані та схвалені багатьма найбільшими та найвідомішими виробниками в напівпровідниковій промисловості. Ці виробники встановили продукти Semicorex як надійні стандарти для використання в критичних додатках епітаксійного росту.

Ми розуміємо, що постачання компонентів є важливою складовою вашого виробничого процесу. Ось чому Semicorex взяв на себе зобов’язання бути довгостроковим партнером, надаючи високоякісні та надійні постачання продукції та надаючи відмінні результати в забезпеченні логістики та післяпродажної підтримки, щоб забезпечити безперебійний і безперебійний рух вашого бізнесу.