Semicorex пропонує різні типи пластин SiC 4H і 6H. Протягом багатьох років ми є виробником і постачальником продукції з карбіду кремнію. Наша подвійно полірована 6-дюймова напівізоляційна пластина HPSI SiC має хорошу цінову перевагу та охоплює більшість європейських та американських ринків. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
Semicorex має повну лінійку продуктів із карбіду кремнію (SiC), включаючи підкладки 4H і 6H з напівафельними пластинами N-типу, P-типу та високої чистоти, вони можуть бути з епітаксією або без неї.
6-дюймовий діаметр нашої 6-дюймової напівізоляційної пластини HPSI SiC забезпечує велику площу поверхні для виробництва силових електронних пристроїв, таких як MOSFET, діоди Шотткі та інші високовольтні пристрої. 6-дюймова напівізоляційна пластина HPSI SiC в основному використовується в зв’язку 5G, радарних системах, головках наведення, супутниковому зв’язку, військових літаках та інших сферах, з перевагами розширення радіочастотного діапазону, ультрадальньої ідентифікації, захисту від перешкод та високої -швидкісні програми передачі інформації з високою ємністю вважаються найбільш ідеальною основою для виготовлення мікрохвильових пристроїв.
Технічні характеристики:
● Діаметр: 6 дюймів
● Подвійне полірування
● Оцінка: виробництво, дослідження, манекен
● Пластина 4H-SiC HPSI
● Товщина: 500±25 мкм
● Щільність мікротрубки: ≤1 шт./см2~ ≤15 шт./см2
Предмети |
виробництво |
дослідження |
манекен |
Параметри кристала |
|||
Політип |
4H |
||
Орієнтація поверхні на осі |
<0001 > |
||
Орієнтація поверхні поза осею |
0±0,2° |
||
(0004) FWHM |
≤45 кутових секунд |
≤60 кутових секунд |
≤100 кутових секунд |
Електричні параметри |
|||
Тип |
HPSI |
||
Питомий опір |
≥1 E8Ом·см |
100% площі > 1 E5ohm·cm |
70% площі > 1 E5ohm·cm |
Механічні параметри |
|||
Діаметр |
150±0,2 мм |
||
Товщина |
500±25 мкм |
||
Первинна плоска орієнтація |
[1-100]±5° або Notch |
||
Довжина/глибина первинної площини |
47,5±1,5 мм або 1 - 1,25 мм |
||
TTV |
≤5 мкм |
≤10 мкм |
≤15 мкм |
LTV |
≤3 мкм (5 мм * 5 мм) |
≤5 мкм (5 мм * 5 мм) |
≤10 мкм (5 мм * 5 мм) |
Лук |
-15 мкм ~ 15 мкм |
-35 мкм ~ 35 мкм |
-45 мкм ~ 45 мкм |
Деформація |
≤35 мкм |
≤45 мкм |
≤55 мкм |
Шорсткість передньої (Si-face) (AFM) |
Ra≤0,2 нм (5 мкм * 5 мкм) |
||
Структура |
|||
Щільність мікротрубок |
≤1 шт./см2 |
≤10 шт./см2 |
≤15 шт./см2 |
Щільність включення вуглецю |
≤1 шт./см2 |
ТО |
|
Шестикутна порожнеча |
Жодного |
ТО |
|
Металеві домішки |
≤5E12атомів/см2 |
ТО |
|
Передня якість |
|||
Фронт |
І |
||
Оздоблення поверхні |
Si-face CMP |
||
частинки |
≤60 шт./вафля (розмір ≥0,3 мкм) |
ТО |
|
Подряпини |
≤5еа/мм. Сукупна довжина ≤ Діаметр |
Сумарна довжина≤300 мм |
ТО |
Апельсинова кірка/ямки/плями/смуги/тріщини/забруднення |
Жодного |
ТО |
|
Крайні відколи/відступи/розломи/шестигранні пластини |
Жодного |
||
Політипні області |
Жодного |
Сукупна площа≤20% |
Сукупна площа≤30% |
Переднє лазерне маркування |
Жодного |
||
Якість задньої частини |
|||
Задня обробка |
C-образний CMP |
||
Подряпини |
≤5ea/мм, сукупна довжина≤2*діаметр |
ТО |
|
Дефекти задньої частини (сколи/відступи на краях) |
Жодного |
||
Шорсткість спини |
Ra≤0,2 нм (5 мкм * 5 мкм) |
||
Лазерне маркування спини |
"ПІВ" |
||
Край |
|||
Край |
Фаска |
||
Упаковка |
|||
Упаковка |
Epi-ready з вакуумною упаковкою Мультивафельна касетна упаковка |
||
*Примітки: "NA" означає відсутність запиту. Незгадані елементи можуть стосуватися SEMI-STD. |