Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor — ідеальне рішення для графітової епітаксії та обробки пластин. Наш надзвичайно чистий продукт забезпечує мінімальне забруднення та виняткову довговічність, що робить його популярним вибором на багатьох ринках Європи та Америки. Як провідний постачальник носіїв для напівпровідникових пластин у Китаї, ми з нетерпінням чекаємо стати вашим довгостроковим партнером.
Наш монокристалічний кремнієвий епітаксіальний фіксатор — це графітовий продукт, покритий SiC високої чистоти, який має високу термостійкість і стійкість до корозії. Носій, покритий карбідом кремнію CVD, використовується в процесах формування епітаксійного шару на напівпровідникових пластинах. Він має високу теплопровідність і відмінні властивості розподілу тепла, які є важливими для ефективних і точних процесів виробництва напівпровідників.
Однією з ключових особливостей нашого монокристалічного кремнієвого пластинчастого токоприймача є його чудова щільність. Як графітова підкладка, так і шар карбіду кремнію мають хорошу щільність і можуть відігравати гарну захисну роль у високотемпературних та корозійних робочих середовищах. Токоприймач із покриттям із карбіду кремнію, який використовується для вирощування монокристалів, має дуже високу площинність поверхні, що важливо для підтримки високоякісного виробництва пластин.
Іншою важливою особливістю нашого продукту є його здатність зменшувати різницю в коефіцієнті теплового розширення між графітовою підкладкою та шаром карбіду кремнію. Це ефективно покращує міцність з’єднання, запобігаючи розтріскування та розшарування. Крім того, і графітова підкладка, і шар карбіду кремнію мають високу теплопровідність і чудові властивості розподілу тепла, забезпечуючи рівномірний розподіл тепла під час виробничого процесу.
Наш монокристалічний кремнієвий пластинчастий токоприймач також стійкий до високотемпературного окислення та корозії, що робить його надійним і довговічним продуктом. Його висока температура плавлення гарантує, що він може витримувати високу температуру середовища, необхідну для ефективного виробництва напівпровідників.
Підсумовуючи, монокристалічний кремнієвий пластинчастий токоприймач Semicorex — це надзвичайно чисте, довговічне та надійне рішення для графітової епітаксії та обробки пластин. Його чудова щільність, рівність поверхні та теплопровідність роблять його ідеальним для використання у високотемпературних та корозійних середовищах. Ми пишаємося тим, що надаємо високоякісні продукти за конкурентоспроможними цінами, і сподіваємося на співпрацю з вами для вирішення всіх ваших потреб у носіях напівпровідникових пластин.
Параметри пластинчастого монокристалічного кремнію
Основні характеристики покриття CVD-SIC |
||
Властивості SiC-CVD |
||
Кристалічна структура |
FCC β фаза |
|
Щільність |
г/см³ |
3.21 |
Твердість |
Твердість за Віккерсом |
2500 |
Розмір зерна |
мкм |
2~10 |
Хімічна чистота |
% |
99.99995 |
Теплоємність |
Дж кг-1 К-1 |
640 |
Температура сублімації |
℃ |
2700 |
Згинальна сила |
МПа (RT 4 точки) |
415 |
Модуль Юнга |
Gpa (вигин 4 точки, 1300 ℃) |
430 |
Теплове розширення (C.T.E) |
10-6К-1 |
4.5 |
Теплопровідність |
(Вт/мК) |
300 |
Характеристики монокристалічного кремнієвого пластинчастого токоприймача
- Уникайте відшаровування та забезпечте покриття на всій поверхні
Стійкість до високотемпературного окислення: стабільна при високих температурах до 1600°C
Висока чистота: виготовлено методом CVD хімічного осадження з парової фази в умовах високотемпературного хлорування.
Стійкість до корозії: висока твердість, щільна поверхня і дрібні частинки.
Стійкість до корозії: кислоти, луги, солі та органічні реагенти.
- Досягнення найкращої ламінарної моделі потоку газу
- Гарантія рівності теплового профілю
- Запобігайте будь-якому забрудненню або дифузії домішок