> Продукти

Продукти

нові продукти

View as

Носій травлення PSS з покриттям SiC

Носії для пластин, які використовуються для епіксіального вирощування та обробки пластин, повинні витримувати високі температури та жорстке хімічне очищення. Носій для травлення PSS із покриттям Semicorex SiC, розроблений спеціально для вимогливого обладнання для епітаксії. Наші продукти мають гарну цінову перевагу та охоплюють багато європейських та американських ринків. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Детальніше Надіслати запит

Стовбуровий токоприймач із SiC-покриттям для епітаксіального росту LPE

Стовпчастий токоприймач Semicorex SiC Coated Barrel для епітаксіального зростання LPE — це високоефективний продукт, розроблений для стабільної та надійної роботи протягом тривалого періоду часу. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для нарощування високоякісних епітаксійних шарів на пластинчастих чіпах. Його можливість налаштування та економічна ефективність роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.

Детальніше Надіслати запит

Ствольна коробка Epi System

Semicorex Barrel Susceptor Epi System — це високоякісний продукт, який забезпечує чудову адгезію покриття, високу чистоту та стійкість до окислення при високій температурі. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для нарощування епіксіальних шарів на пластинчастих чіпах. Його економічна ефективність і можливість налаштування роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.

Детальніше Надіслати запит

Реакторна система рідкофазної епітаксії (LPE).

Reactor System для рідкофазної епітаксії (LPE) Semicorex — це інноваційний продукт, який забезпечує відмінні теплові характеристики, рівномірний тепловий профіль і чудову адгезію покриття. Його висока чистота, стійкість до високотемпературного окислення та стійкість до корозії роблять його ідеальним вибором для використання в напівпровідниковій промисловості. Його настроювані параметри та економічна ефективність роблять його висококонкурентним продуктом на ринку.

Детальніше Надіслати запит

CVD епітаксійне осадження в барабанному реакторі

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor — це дуже міцний і надійний продукт для вирощування епіксіальних шарів на пластинчастих чіпах. Його стійкість до високотемпературного окислення та висока чистота роблять його придатним для використання в напівпровідниковій промисловості. Його рівномірний тепловий профіль, ламінарна структура газового потоку та запобігання забрудненню роблять його ідеальним вибором для високоякісного росту епіксіального шару.

Детальніше Надіслати запит

Епітаксіальне осадження кремнію в барабанному реакторі

Якщо вам потрібен високоефективний графітовий чутливий пристрій для використання у виробництві напівпровідників, реактор для епітаксіального осадження кремнію Semicorex є ідеальним вибором. Його високочисте покриття SiC і виняткова теплопровідність забезпечують чудові властивості захисту та розподілу тепла, що робить його вибором для надійної та стабільної роботи навіть у найскладніших умовах.

Детальніше Надіслати запит

<...138 139 140 141 142...144 >