Пластинчастий токоприймач Semicorex спеціально розроблений для процесу епітаксії напівпровідників. Він відіграє важливу роль у забезпеченні точності та ефективності обробки пластин. Ми є провідним підприємством китайської напівпровідникової промисловості, яке прагне надавати вам найкращі продукти та послуги.*
Semicorex Wafer Susceptor майстерно виготовлено з графіту та покрито карбідом кремнію (SiC), щоб відповідати вимогам сучасного виробництва напівпровідників.
У процесах епітаксії підтримка стабільного та контрольованого середовища є абсолютно необхідною. Wafer Susceptor служить базовою платформою, на якій пластини розміщуються під час осадження, відповідаючи точним вимогам щодо однорідності температури, хімічної інертності та механічної міцності для отримання високоякісних епітаксійних шарів.
Вибір графіту як основного матеріалу для Wafer Susceptor обумовлений його чудовою теплопровідністю та механічними властивостями. Здатність графіту витримувати високі температури, зберігаючи при цьому структурну цілісність, має вирішальне значення у високотемпературному середовищі реакторів епітаксії. Крім того, теплопровідність графіту забезпечує ефективний розподіл тепла по пластині, зменшуючи ризик градієнтів температури, які можуть призвести до дефектів епітаксійного шару.
Щоб підвищити продуктивність Wafer Susceptor, на графітову основу нанесено покриття з карбіду кремнію (SiC). SiC — це дуже міцний матеріал із чудовою хімічною стійкістю, що робить його ідеальним для використання в напівпровідникових середовищах, де часто присутні реактивні гази. Покриття SiC забезпечує захисний бар’єр, який захищає графіт від потенційних хімічних реакцій, забезпечуючи довговічність пластини-суцептора та підтримуючи чисте середовище всередині реактора.
Semicorex Wafer Susceptor, виготовлений із графіту, покритого SiC, є незамінним компонентом у процесах епітаксії напівпровідників. Поєднання термічних і механічних властивостей графіту з хімічною і термічною стабільністю карбіду кремнію робить його ідеальним для суворих вимог сучасного виробництва напівпровідників. Конструкція з однією пластиною забезпечує точний контроль над процесом епітаксії, сприяючи виробництву високоякісних напівпровідникових приладів. Цей сенсор гарантує, що пластини обробляються з максимальною обережністю та точністю, що призводить до чудових епітаксійних шарів та кращих напівпровідникових продуктів.