Що таке напівпровідникова пластина?
Напівпровідникова пластина — це тонкий круглий шматок напівпровідникового матеріалу, який служить основою для виготовлення інтегральних схем (ІС) та інших електронних пристроїв. Пластина забезпечує рівну та однорідну поверхню, на якій побудовані різні електронні компоненти.
Процес виготовлення пластин включає кілька етапів, включаючи вирощування великого монокристала потрібного напівпровідникового матеріалу, розрізання кристала на тонкі пластини за допомогою алмазної пилки, а потім полірування та очищення пластин для видалення будь-яких поверхневих дефектів або домішок. Отримані пластини мають дуже плоску та гладку поверхню, що є вирішальним для подальших процесів виготовлення.
Після того, як пластини підготовлені, вони проходять серію процесів виробництва напівпровідників, таких як фотолітографія, травлення, осадження та легування, щоб створити складні візерунки та шари, необхідні для створення електронних компонентів. Ці процеси повторюються кілька разів на одній пластині для створення кількох інтегральних схем або інших пристроїв.
Після завершення процесу виготовлення окремі чіпи відокремлюються шляхом нарізання пластини кубиками по заздалегідь визначеним лініям. Відокремлені мікросхеми потім упаковуються, щоб захистити їх і забезпечити електричні з’єднання для інтеграції в електронні пристрої.
Різні матеріали на вафлі
Напівпровідникові пластини в основному виготовляються з монокристалічного кремнію завдяки його великій кількості, відмінним електричним властивостям і сумісності зі стандартними процесами виробництва напівпровідників. Однак, залежно від конкретних застосувань і вимог, інші матеріали також можуть використовуватися для виготовлення пластин. Ось кілька прикладів:
Карбід кремнію (SiC): SiC — це широкозонний напівпровідниковий матеріал, відомий своєю чудовою теплопровідністю та високотемпературними характеристиками. Пластини SiC використовуються в потужних електронних пристроях, таких як перетворювачі енергії, інвертори та компоненти електромобілів.
Нітрид галію (GaN): GaN — це широкозонний напівпровідниковий матеріал із винятковими можливостями обробки електроенергії. Пластини GaN використовуються у виробництві силових електронних пристроїв, підсилювачів високої частоти, світлодіодів (світлодіодів).
Арсенід галію (GaAs): GaAs є ще одним поширеним матеріалом, який використовується для пластин, особливо у високочастотних і високошвидкісних додатках. Пластини GaAs забезпечують кращу продуктивність для певних електронних пристроїв, таких як радіочастотні (радіочастотні) та мікрохвильові пристрої.
Фосфід індію (InP): InP — це матеріал із чудовою рухливістю електронів, який часто використовується в оптоелектронних пристроях, таких як лазери, фотодетектори та високошвидкісні транзистори. Пластини InP підходять для застосування у волоконно-оптичному зв’язку, супутниковому зв’язку та високошвидкісній передачі даних.
Semicorex Teflon Cassette — це високоефективний носій, розроблений для ефективного поводження та очищення пластин у напівпровідниковій, фотоелектричній та електронній промисловості. Виберіть Semicorex для наших надійних, довговічних і економічно ефективних рішень, які забезпечують оптимальну якість пластин і тривалу роботу протягом усього виробничого процесу.*
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex PFA Wafer Cassette — це хімічно стійкий розчин високої чистоти, розроблений для захисту напівпровідникових пластин під час обробки, зберігання та транспортування. Виберіть Semicorex для наших високоточних, міцних продуктів, які забезпечують оптимальну цілісність пластини та ефективність у виробництві напівпровідників.*
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex SOI Wafer — це високоефективна напівпровідникова підкладка, яка має тонкий кремнієвий шар поверх ізоляційного матеріалу, що оптимізує ефективність пристрою, швидкість і енергоспоживання. Завдяки настроюваним параметрам, передовим технологіям виробництва та зосередженню на якості Semicorex пропонує пластини SOI, які забезпечують чудову продуктивність і надійність для широкого спектру найсучасніших застосувань.*
ДетальнішеНадіслати запитКремнієва плівка Semicorex або кремнієва пластина — це високочиста напівпровідникова підкладка, необхідна для застосування в інтегральних схемах, сонячних елементах і пристроях MEMS. Досвід Semicorex у точному виробництві та суворому контролі якості гарантує, що наша кремнієва плівка відповідає найвищим галузевим стандартам, забезпечуючи виняткову надійність і продуктивність для передових напівпровідникових застосувань.*
ДетальнішеНадіслати запитПідкладка Semicorex Si розроблена з точністю та надійністю, щоб відповідати строгим стандартам виробництва напівпровідників. Вибір Semicorex означає вибір підкладки, ретельно розробленої для забезпечення стабільної продуктивності в усіх сферах застосування. Наша кремнієва підкладка проходить суворий контроль якості, що забезпечує мінімальну кількість домішок і дефектів, і доступна в індивідуальних специфікаціях відповідно до потреб передових технологій.*
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex SiC Dummy Wafer — це спеціалізований інструмент для виробництва напівпровідників, розроблений переважно для експериментальних і тестових цілей.**
ДетальнішеНадіслати запит