8 -дюймовий верхній кільце EPI

Semicorex 8 -дюймовий верхній кільце EPI є спеціалізованою компонентом епітаксіальних систем осадження, що забезпечують високу продуктивність як верхнє покриття на реакційній камері. З акцентом на структурну цілісність та термічну стійкість під час епітаксіального росту напівпровідникових вафель, верхнє кільце EPI виготовляється з графіту високої якості та покритого карбідом кремнію (SIC), щоб протистояти температурі та хімічно реактивним середовищам виробництва напівпровідників.

В епітаксіальних реакторах верхнє кільце допомагає зберегти вафельне середовище та відіграє важливу роль у рівномірності температури та потоку газу під час осадження як частини складання чутки. Покриття SIC на графітній підкладці забезпечує верхнє кільце EPI з тепловою стійкістю та інертним середовищем, необхідним для захисту графітового ядра через вплив процесів процесів під час продуктивності верхнього кільця EPI (водень, силан, клозилани тощо). Твердість та провідність шару SIC підвищують продуктивність верхнього кільця EPI, запобігаючи деградації та забезпечуючи більш стійкі шари протягом усього виробничого циклу.

З прихильністю до розмірної точності, узгодженості покриття та повторюваності 8 -дюймове верхнє кільце EPI виготовляється з точною інженерією. Графітова підкладка обробляється до щільних допусків і термічно очищається до відокремлених домішок, забезпечуючи чисту підкладку з відмінною чистотою та міцністю. Покриття SIC застосовується шляхом хімічного осадження пари (ССЗ), утворюючи щільний, послідовний та сильно скріплений захисний шар. Цей процес мінімізує генерацію частинок і дозволяє покриттю підтримувати цілісність поверхні під час розширеного використання.

Виробники напівпровідників покладаються на верхнє кільце EPI, щоб підтримувати критичні параметри камери та підтримувати пластинки без дефектів під час виробництва. Конфігурація розроблена для використання з провідними 8-дюймовими системами обробки вафель. Спеціальні варіанти доступні для товщини, обробки поверхні та конструкцій для кращого теплового управління або навіть розподілу газу.

Відповідність властивостей графіту з покриттям SIC для цього додатка приймає комбінацію найкращих властивостей з обох матеріалів; Графіт дуже піддається мальовничому та має термічний ударний стійкість у поєднанні з карбідом кремнію, який важче, стійкий до корозії та має довший термін служби. Ця комбінація в кінцевому підсумку дає вам верхнє кільце EPI, надійне при високій температурі, і гарантує чисте та стабільне середовище обробки, що зменшує інтервали технічного обслуговування та забезпечує загальний час розширеного обладнання.

Графітові компоненти відіграють незамінну та вирішальну роль у виробництві напівпровідників. Якість графітового матеріалу суттєво впливає на якість готового продукту. Наша графітова партія Консистенція та однорідність матеріалу контролюються та гарантуються протягом усього виробничого процесу.

1. МАЛЬКА-ПАРТНИЙ ВИРОБ, використовуючи невелику карбонізаційну піч потужністю лише 50 кубічних метрів.

2. Кожен шматок матеріалу контролюється та відстежується.

3. Температурне моніторинг у кількох точках у печі забезпечує мінімальні температури.

4. Моніторинг терміну в декількох точках матеріалу забезпечує мінімальні різниці температури.

8-дюймовий топ-кільце EPI від Semicorex пропонує виняткові показники, послідовність партії до пакетів та доведену надійність у найскладніших напівпровідниках кремнію, карбід кремнію або інших складових процесів епітакси напівпровідника. На кожному етапі виробництва ми виробляємо продукти з контролем якості, а це означає, що кожен продукт, придбаний для напівпровідникової галузі, перевищує технічні характеристики якості.

Виберіть 8-дюймовий верхній кільце EPI Semicorex для вашої програми Epitaxy, щоб скористатися можливостями, пропонованими за допомогою точної інженерії, чудових матеріалів та налаштування, що стосується додатків для покращення врожайності та продуктивності пристрою.