Semicorex Rigid Felt with Glass-like Carbon Coating — це високоефективний ізоляційний матеріал, який поєднує в собі довговічність повсті з вуглецевого волокна та стійке до подряпин покриття, подібне до склокарбону. Експертиза Semicorex у передових технологіях покриття забезпечує виняткову довговічність і чистоту, що відповідає вимогам додатків, чутливих до високих температур і точності.*
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Rigid Felt Crucible є найкращим вибором для високотемпературних застосувань у напівпровідниковій промисловості. Його поєднання високої міцності на стиск і чудової теплоізоляції робить його надійним і ефективним компонентом у процесах росту кристалів. Вибираючи Semicorex Rigid Felt Crucible, ви інвестуєте в продукт, який не тільки покращує ваші виробничі можливості, але й підтримує вашу відданість якості та продуктивності. *
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Graphite Rigid Felt — це високоефективний матеріал, розроблений для застосування при високих температурах, який забезпечує виняткову міцність на стиск і чудову теплоізоляцію. Нехай Semicorex стане вашим надійним партнером у досягненні вищих промислових цілей.*
ДетальнішеНадіслати запитДержатель для пластин Semicorex MOCVD є незамінним компонентом для епітаксійного нарощування SiC, пропонуючи чудовий контроль температури, хімічну стійкість і стабільність розмірів. Вибираючи тримач пластин Semicorex, ви покращуєте продуктивність ваших процесів MOCVD, що призводить до вищої якості продукції та підвищення ефективності ваших операцій з виробництва напівпровідників. *
ДетальнішеНадіслати запитКомпонент Semicorex Epitaxy є ключовим елементом у виробництві високоякісних підкладок SiC для передових напівпровідникових застосувань, надійний вибір для реакторних систем LPE. Вибираючи Semicorex Epitaxy Component, клієнти можуть бути впевнені у своїх інвестиціях і розширити свої виробничі можливості на конкурентному ринку напівпровідників.*
ДетальнішеНадіслати запитPBN Ceramic Disc від Semicorex синтезується за допомогою складного процесу хімічного осадження з парової фази (CVD), використовуючи трихлорид бору (BCl3) і аміак (NH3) при підвищених температурах і низькому тиску. Цей метод синтезу дозволяє отримати матеріал виняткової чистоти та структурної цілісності, що робить його незамінним для різноманітних застосувань у напівпровідниковій промисловості.**
ДетальнішеНадіслати запит