Продукти

Semicorex є професійним виробником та постачальником у Китаї. Наша фабрика постачає стволоприймач, привід mocvd, вафельний човен тощо. Екстремальний дизайн, якісна сировина, висока продуктивність і конкурентоспроможна ціна – це те, чого хоче кожен клієнт, і це також те, що ми можемо вам запропонувати. Ми гарантуємо високу якість, розумну ціну та бездоганний сервіс.

View as

Компонент ICP із покриттям SiC

Компонент ICP із SiC-покриттям Semicorex розроблено спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки тонкому кристалічному покриттю SiC наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну теплову однорідність і тривалу хімічну стійкість.

Детальніше Надіслати запит

Високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення

Коли мова йде про процеси обробки пластин, такі як епітаксія та MOCVD, високотемпературне покриття SiC від Semicorex для камер плазмового травлення є найкращим вибором. Наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість завдяки нашому тонкому кристалічному покриттю SiC.

Детальніше Надіслати запит

Лоток для плазмового травлення ICP

Лоток для плазмового травлення ICP від Semicorex розроблений спеціально для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Детальніше Надіслати запит

Система плазмового травлення ICP

Носій Semicorex із покриттям SiC для системи плазмового травлення ICP є надійним і економічно ефективним рішенням для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Наші носії мають тонке кристалічне покриття SiC, яке забезпечує чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість.

Детальніше Надіслати запит

Індуктивно-зв'язана плазма (ICP)

Токоприймач із покриттям із карбіду кремнію Semicorex для індуктивно-зв’язаної плазми (ICP) розроблено спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Детальніше Надіслати запит

Тримач для пластин ICP Etching

Тримач пластин ICP для травлення Semicorex є ідеальним рішенням для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Детальніше Надіслати запит

<...67 68 69 70 71...76 >