SiC дифузійна пічна труба

Передові властивості матеріалу дифузійної труби Semicorex SiC, включаючи високу міцність на вигин, видатну стійкість до окислення та корозії, високу зносостійкість, низький коефіцієнт тертя, чудові високотемпературні механічні властивості та надвисоку чистоту, роблять її незамінною в напівпровідниковій промисловості. , особливо для застосування в дифузійних печах. Ми в Semicorex націлені на виробництво та постачання високопродуктивних SiC дифузійних труб, які поєднують якість із економічною ефективністю.**

Надіслати запит

Опис продукту

Висока міцність на згин: дифузійна трубка Semicorex SiC має міцність на згин, що перевищує 200 МПа, забезпечуючи виняткову механічну продуктивність і структурну цілісність в умовах високих навантажень, характерних для процесів виробництва напівпровідників.

Надзвичайна стійкість до окислення: ці SiC дифузійні труби виявляють чудову стійкість до окислення, найкращу серед усіх безоксидних керамічних виробів. Ця характеристика забезпечує тривалу стабільність і продуктивність у високотемпературному середовищі, знижуючи ризик деградації та продовжуючи термін служби трубок.

Чудова стійкість до корозії: хімічна інертність SiC дифузійної трубки забезпечує чудову стійкість до корозії, що робить ці трубки ідеальними для використання в жорстких хімічних середовищах, які часто зустрічаються під час обробки напівпровідників.

Висока зносостійкість: SiC Diffusion Furnace Tube має високу стійкість до зносу, що має вирішальне значення для збереження стабільності розмірів і зниження вимог до обслуговування протягом тривалого періоду використання в абразивних умовах.

Низький коефіцієнт тертя: низький коефіцієнт тертя SiC Diffusion Furnace Tube зменшує знос як трубок, так і пластин, забезпечуючи безперебійну роботу та мінімізуючи ризики забруднення під час обробки напівпровідників.

Чудові високотемпературні механічні властивості: SiC Diffusion Furnace Tube демонструє найкращі високотемпературні механічні властивості серед відомих керамічних матеріалів, включаючи видатну міцність і стійкість до повзучості. Це робить його особливо придатним для застосувань, що вимагають тривалої стабільності при підвищених температурах.

З CVD-покриттям: SiC-покриття Semicorex Chemical Vapor Deposition (CVD) досягає рівня чистоти понад 99,9995%, із вмістом домішок нижче 5 ppm і шкідливих металевих домішок нижче 1 ppm. Процес нанесення покриття CVD гарантує, що трубки відповідають суворим вимогам до вакуумної герметичності 2-3 Торр, необхідним для високоточних виробництв напівпровідників.

Застосування в дифузійних печах: ці SiC дифузійні труби спеціально розроблені для використання в дифузійних печах, де вони відіграють вирішальну роль у високотемпературних процесах, таких як легування та окислення. Їх передові властивості матеріалу гарантують, що вони можуть витримувати складні умови цих процесів, тим самим підвищуючи ефективність і надійність виробництва напівпровідників.