Semicorex представляє свій SiC Disc Susceptor, розроблений для підвищення продуктивності обладнання для епітаксії, металоорганічного хімічного осадження з парової фази (MOCVD) і швидкої термічної обробки (RTP). Ретельно розроблений SiC Disc Susceptor забезпечує властивості, які гарантують чудову продуктивність, довговічність та ефективність у високотемпературному та вакуумному середовищах.**
Завдяки глибокій прихильності до якості та інновацій надчистий SiC Disc Susceptor від Semicorex встановлює новий стандарт продуктивності обладнання для епітаксії, MOCVD і RTP. Поєднуючи виняткову стійкість до термічного удару, чудову теплопровідність, видатну хімічну стійкість і надвисоку чистоту, ці розроблені компоненти дають змогу виробникам напівпровідників досягати неперевершеної ефективності, надійності та якості продукції. Настроювані рішення Semicorex додатково гарантують, що кожне застосування термічної обробки отримує переваги від оптимізованих, точно розроблених компонентів, розроблених для задоволення унікальних вимог.
Чудова стійкість до термічного удару:SiC Disc Susceptor відмінно витримує різкі коливання температури, які є звичайними для RTP та інших високотемпературних процесів. Ця виняткова стійкість до термічного удару забезпечує структурну цілісність і довговічність, зводячи до мінімуму ризик пошкодження або виходу з ладу через раптові зміни температури та підвищуючи надійність обладнання для термічної обробки.
Чудова теплопровідність:Ефективна теплопередача має вирішальне значення для термічної обробки. Чудова теплопровідність SiC Disc Susceptor забезпечує швидке та рівномірне нагрівання та охолодження, що є необхідним для точного контролю температури та рівномірності процесу. Це призводить до підвищення ефективності процесу, скорочення тривалості циклу та підвищення якості напівпровідникових пластин.
Виняткова хімічна стійкість:SiC Disc Susceptor забезпечує виняткову стійкість до широкого спектру корозійних і реактивних хімікатів, які використовуються в процесах епітаксії, MOCVD і RTP. Ця хімічна інертність захищає базовий графіт від деградації, запобігає забрудненню технологічного середовища та забезпечує постійну продуктивність протягом тривалих періодів експлуатації.
Надвисока чистота: SiC Disc Susceptor виготовлено відповідно до надвисоких стандартів чистоти як для графіту, так і для покриття SiC, що дозволяє уникнути потенційного забруднення та забезпечити виробництво бездефектних напівпровідникових пристроїв. Це прагнення до чистоти означає вищі врожаї та покращену продуктивність пристрою.
Наявність складних форм:Розширені виробничі можливості Semicorex дозволяють виготовляти SiC Disc Susceptor складної форми, адаптованої до конкретних вимог замовника. Ця гнучкість дозволяє розробляти індивідуальні рішення, які відповідають точним потребам різноманітних програм термічної обробки, підвищуючи ефективність процесу та сумісність обладнання.
Можна використовувати в окисних атмосферах:Міцне покриття CVD SiC забезпечує чудовий захист від окислення, дозволяючи SiC Disc Susceptor надійно працювати в окисних середовищах. Це розширює їхню застосовність до більш широкого діапазону теплових процесів, забезпечуючи універсальність і адаптивність.
Надійна, повторювана продуктивність:Розроблений для високотемпературних і вакуумних середовищ, SiC Disc Susceptor забезпечує надійну та повторювану роботу. Його довговічність і консистенція роблять їх ідеальними для критичних застосувань термічної обробки, скорочуючи час простою, витрати на технічне обслуговування та забезпечуючи довгострокову експлуатаційну надійність.
Semicorex спеціалізується на налагодженні CVD-SiC-покриттям компонентів для задоволення різноманітних потреб обладнання для термічної обробки, зокрема:
Дифузори:Підвищення рівномірності розподілу газу та узгодженості процесу.
Ізолятори:Забезпечують теплоізоляцію та захист у середовищах з високою температурою.
Інші спеціалізовані теплові компоненти:Індивідуальні рішення, розроблені для задоволення конкретних вимог процесу та оптимізації продуктивності обладнання.