Як професійний виробник, ми хотіли б надати вам SiC епітаксію. І ми запропонуємо вам найкраще післяпродажне обслуговування та своєчасну доставку. Semicorex постачає CVD графітовий фіксатор із покриттям з карбіду кремнію, який використовується для підтримки пластин. Їхня високочиста графітова конструкція з покриттям з карбіду кремнію (SiC) забезпечує чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність для сталої товщини та стійкості епі-шару, а також тривалу хімічну стійкість. Тонке кристалічне покриття SiC забезпечує чисту, гладку поверхню, що має важливе значення для роботи, оскільки незаймані пластини контактують із сенсором у багатьох точках по всій площі.
Компонент Semicorex Epitaxy є ключовим елементом у виробництві високоякісних підкладок SiC для передових напівпровідникових застосувань, надійний вибір для реакторних систем LPE. Вибираючи Semicorex Epitaxy Component, клієнти можуть бути впевнені у своїх інвестиціях і розширити свої виробничі можливості на конкурентному ринку напівпровідників.*
ДетальнішеНадіслати запитРеакційна камера Semicorex LPE Halfmoon Reaction Chamber є незамінною для ефективної та надійної роботи епітаксії SiC, забезпечуючи виробництво високоякісних епітаксіальних шарів, одночасно знижуючи витрати на технічне обслуговування та підвищуючи ефективність роботи. **
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex 6'' Wafer Carrier для Aixtron G5 пропонує безліч переваг для використання в обладнанні Aixtron G5, особливо у високотемпературних і високоточних процесах виробництва напівпровідників.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Epitaxy Wafer Carrier є високонадійним рішенням для застосувань Epitaxy. Сучасні матеріали та технологія покриття гарантують, що ці носії забезпечують виняткову продуктивність, зменшуючи експлуатаційні витрати та час простою через технічне обслуговування або заміну.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex представляє свій SiC Disc Susceptor, розроблений для підвищення продуктивності обладнання для епітаксії, металоорганічного хімічного осадження з парової фази (MOCVD) і швидкої термічної обробки (RTP). Ретельно розроблений SiC Disc Susceptor забезпечує властивості, які гарантують чудову продуктивність, довговічність та ефективність у високотемпературному та вакуумному середовищах.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex SiC ALD Susceptor пропонує численні переваги в процесах ALD, включаючи високотемпературну стабільність, покращену однорідність і якість плівки, покращену ефективність процесу та подовжений термін служби токоприймача. Ці переваги роблять SiC ALD Susceptor цінним інструментом для отримання високоякісних тонких плівок у різних вимогливих додатках.**
ДетальнішеНадіслати запит