Semicorex LPE Part — це компонент із покриттям SiC, спеціально розроблений для процесу епітаксії SiC, що забезпечує виняткову термічну стабільність і хімічну стійкість для забезпечення ефективної роботи в умовах високої температури та суворих умов. Вибираючи продукцію Semicorex, ви отримуєте вигоду від високоточних і довговічних індивідуальних рішень, які оптимізують процес епітаксії SiC і підвищують ефективність виробництва.*
ДетальнішеНадіслати запитКарбідно-кремнієвий лоток Semicorex витримує екстремальні умови, забезпечуючи чудову продуктивність. Він відіграє вирішальну роль у процесі травлення ICP, дифузії напівпровідників та епітаксійному процесі MOCVD.
ДетальнішеНадіслати запитКомпонент Semicorex Epitaxy є ключовим елементом у виробництві високоякісних підкладок SiC для передових напівпровідникових застосувань, надійний вибір для реакторних систем LPE. Вибираючи Semicorex Epitaxy Component, клієнти можуть бути впевнені у своїх інвестиціях і розширити свої виробничі можливості на конкурентному ринку напівпровідників.*
ДетальнішеНадіслати запитРеакційна камера Semicorex LPE Halfmoon Reaction Chamber є незамінною для ефективної та надійної роботи епітаксії SiC, забезпечуючи виробництво високоякісних епітаксіальних шарів, одночасно знижуючи витрати на технічне обслуговування та підвищуючи ефективність роботи. **
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex 6'' Wafer Carrier для Aixtron G5 пропонує безліч переваг для використання в обладнанні Aixtron G5, особливо у високотемпературних і високоточних процесах виробництва напівпровідників.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex Epitaxy Wafer Carrier є високонадійним рішенням для застосувань Epitaxy. Сучасні матеріали та технологія покриття гарантують, що ці носії забезпечують виняткову продуктивність, зменшуючи експлуатаційні витрати та час простою через технічне обслуговування або заміну.**
ДетальнішеНадіслати запит