Вакуумний патрон SiC

Вакуумний патрон Semicorex SiC — це спеціально розроблений інструмент, який надійно утримує напівпровідникові пластини на критичних етапах обробки з максимальною стабільністю та надійністю. Покриття CVD SiC вакуумного патрона SiC забезпечує виняткову механічну міцність, хімічну стійкість і термічну стабільність, забезпечуючи захист делікатних пластин від будь-якого потенційного пошкодження або забруднення.

Унікальна комбінація графіту та покриття SiC у вакуумному патроні SiC забезпечує високу теплопровідність і мінімальний коефіцієнт теплового розширення. Це забезпечує ефективне розсіювання тепла та рівномірний розподіл температури по поверхні пластини. Ці функції є важливими для підтримки оптимальних умов обробки та підвищення продуктивності в процесах виготовлення напівпровідників.

Вакуумний патрон SiC також сумісний із вакуумними середовищами, забезпечуючи чудове зчеплення між патроном і пластиною. Це виключає ризик зісковзування або зміщення під час високоточних операцій. Його непориста поверхня та інертні властивості додатково запобігають будь-якому виділенню газів або забрудненню частинками, зберігаючи чистоту та цілісність середовища виробництва напівпровідників.

Вакуумний патрон Semicorex SiC — це наріжна технологія у виробництві напівпровідників, що забезпечує неперевершену продуктивність і довговічність, що відповідає постійним вимогам галузі. Незалежно від того, чи використовується це передове рішення для літографії, травлення, осадження чи інших критичних процесів, це передове рішення продовжує змінювати стандарти досконалості в роботі з напівпровідниковими пластинами та обробці.