додому > Продукти > Покриття з карбіду кремнію
Продукти

Китай Покриття з карбіду кремнію Виробники, постачальники, фабрика

Покриття SiC – це тонкий шар, нанесений на чутливий елемент за допомогою процесу хімічного осадження з парової фази (CVD). Карбід кремнію має низку переваг перед кремнієм, включаючи 10-кратну напруженість електричного поля пробою, 3-кратну ширину забороненої зони, що забезпечує матеріал стійкістю до високих температур і хімічних речовин, відмінною зносостійкістю, а також теплопровідністю.

Semicorex надає індивідуальне обслуговування, допомагає вам впроваджувати інновації з компонентами, які служать довше, скорочують час циклу та підвищують врожайність.


Покриття SiC має кілька унікальних переваг

Стійкість до високих температур: токоприймач із покриттям CVD SiC може витримувати високі температури до 1600°C без значної термічної деградації.

Хімічна стійкість: покриття з карбіду кремнію забезпечує чудову стійкість до широкого спектру хімічних речовин, включаючи кислоти, луги та органічні розчинники.

Зносостійкість: покриття SiC надає матеріалу чудову зносостійкість, що робить його придатним для застосувань, які передбачають високий рівень зношування.

Теплопровідність: покриття CVD SiC надає матеріалу високу теплопровідність, що робить його придатним для використання в умовах високих температур, які потребують ефективної теплопередачі.

Висока міцність і жорсткість: токоприймач, покритий карбідом кремнію, надає матеріалу високу міцність і жорсткість, що робить його придатним для застосувань, які вимагають високої механічної міцності.


Покриття SiC використовується в різних сферах застосування

Виробництво світлодіодів: CVD SiC-суцептор із покриттям використовується у виробництві різних типів світлодіодів, включаючи сині та зелені світлодіоди, ультрафіолетові світлодіоди та світлодіоди глибокого ультрафіолетового випромінювання, завдяки своїй високій теплопровідності та хімічній стійкості.



Мобільний зв’язок: CVD-SiC-покривний приймач є важливою частиною HEMT для завершення епітаксійного процесу GaN-on-SiC.



Обробка напівпровідників: CVD SiC-суцептор із покриттям використовується в напівпровідниковій промисловості для різних застосувань, включаючи обробку пластин та епітаксійне зростання.





Графітові компоненти з покриттям SiC

Виготовлене з графіту з покриттям з карбіду кремнію (SiC), покриття наноситься методом CVD на певні сорти графіту високої щільності, тому воно може працювати у високотемпературній печі з температурою понад 3000 °C в інертній атмосфері та 2200 °C у вакуумі. .

Особливі властивості та невелика маса матеріалу забезпечують швидкий нагрів, рівномірний розподіл температури та виняткову точність контролю.


Матеріальні дані покриття Semicorex SiC

Типові властивості

одиниці

Цінності

Структура


FCC β фаза

Орієнтація

частка (%)

111 бажано

Насипна щільність

г/см³

3.21

Твердість

Твердість за Віккерсом

2500

Теплоємність

Дж кг-1 К-1

640

Теплове розширення 100–600 °C (212–1112 °F)

10-6К-1

4.5

Модуль Юнга

Gpa (вигин 4 точки, 1300 ℃)

430

Розмір зерна

мкм

2~10

Температура сублімації

2700

Згинальна сила

МПа (RT 4 точки)

415

Теплопровідність

(Вт/мК)

300


Висновок Токоприймач із CVD SiC покриттям є композиційним матеріалом, що поєднує в собі властивості токоприймача та карбіду кремнію. Цей матеріал володіє унікальними властивостями, включаючи високу температурну і хімічну стійкість, відмінну зносостійкість, високу теплопровідність, а також високу міцність і жорсткість. Ці властивості роблять його привабливим матеріалом для різних високотемпературних застосувань, включаючи обробку напівпровідників, хімічну обробку, термічну обробку, виробництво сонячних батарей і світлодіодів.






View as  
 
Кремнієвий постамент

Кремнієвий постамент

Кремнієвий п’єдестал Semicorex, часто недооцінений, але надзвичайно важливий компонент, відіграє життєво важливу роль у досягненні точних і повторюваних результатів у процесах дифузії та окислення напівпровідників. Спеціалізована платформа, на якій розміщуються кремнієві човни у високотемпературних печах, пропонує унікальні переваги, які безпосередньо сприяють покращенню рівномірності температури, покращенню якості пластин і, зрештою, чудовій продуктивності напівпровідникових пристроїв.**

ДетальнішеНадіслати запит
Човен для відпалу кремнію

Човен для відпалу кремнію

Човен для відпалу кремнію Semicorex, ретельно розроблений для обробки та обробки кремнієвих пластин, відіграє вирішальну роль у створенні високопродуктивних напівпровідникових пристроїв. Його унікальні конструктивні особливості та властивості матеріалу роблять його необхідним для таких важливих етапів виготовлення, як дифузія та окислення, забезпечуючи рівномірну обробку, максимізуючи вихід і сприяючи загальній якості та надійності напівпровідникових пристроїв.**

ДетальнішеНадіслати запит
Рецептор епітаксії MOCVD

Рецептор епітаксії MOCVD

Semicorex MOCVD Epitaxy Susceptor став критично важливим компонентом епітаксії металоорганічного хімічного осадження з парової фази (MOCVD), що дозволяє виготовляти високоефективні напівпровідникові пристрої з винятковою ефективністю та точністю. Його унікальне поєднання властивостей матеріалу робить його ідеальним для складних термічних і хімічних середовищ, які виникають під час епітаксійного росту складних напівпровідників.**

ДетальнішеНадіслати запит
Горизонтальний вафельний човен SiC

Горизонтальний вафельний човен SiC

Semicorex Horizontal SiC Wafer Boat став незамінним інструментом у виробництві високоефективних напівпровідникових і фотоелектричних пристроїв. Ці спеціалізовані носії, ретельно розроблені з високочистого карбіду кремнію (SiC), мають виняткові термічні, хімічні та механічні властивості, необхідні для вимогливих процесів виготовлення найсучасніших електронних компонентів.**

ДетальнішеНадіслати запит
Багатофункціональний кишеньковий приймач SiC

Багатофункціональний кишеньковий приймач SiC

Semicorex SiC Multi Pocket Susceptor представляє критично важливу технологію для епітаксійного вирощування високоякісних напівпровідникових пластин. Виготовлені за допомогою складного процесу хімічного осадження з парової фази (CVD), ці токоприймачі забезпечують надійну та високоефективну платформу для досягнення виняткової однорідності епітаксійного шару та ефективності процесу.**

ДетальнішеНадіслати запит
SiC керамічний вафельний човен

SiC керамічний вафельний човен

Semicorex SiC Ceramic Wafer Boat стала критично важливою технологією, що забезпечує стабільну платформу для високотемпературної обробки, одночасно зберігаючи цілісність пластин і забезпечуючи чистоту, необхідну для високопродуктивних пристроїв. Він адаптований до напівпровідникової та фотоелектричної промисловості, яка базується на точності. Кожен аспект обробки пластин, від осадження до дифузії, вимагає ретельного контролю та незайманих умов. Ми в Semicorex націлені на виробництво та постачання високоефективного SiC Ceramic Wafer Boat, який поєднує якість з економічною ефективністю.**

ДетальнішеНадіслати запит
Semicorex виробляє Покриття з карбіду кремнію протягом багатьох років і є одним із професійних виробників і постачальників Покриття з карбіду кремнію у Китаї. Коли ви купуєте наші сучасні та довговічні продукти, які постачають масове пакування, ми гарантуємо швидку доставку великої кількості. Протягом багатьох років ми надавали клієнтам індивідуальні послуги. Клієнти задоволені нашою продукцією та відмінним обслуговуванням. Ми щиро сподіваємось стати вашим надійним довгостроковим діловим партнером! Ласкаво просимо до покупки продукції на нашому заводі.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept