Вафельний човен SiSiC

У конкурентному середовищі виробництва напівпровідників і сонячних елементів дуже важливо збалансувати продуктивність і довговічність компонентів. нашSiSiC Wafer Boat сконструйовано, щоб стати «промисловою робочою конячкою» для роботи в високотемпературних печах. Використовуючи процес реакційного з’єднання, ми постачаємо носій, який забезпечує чудову механічну міцність і стійкість до термічного удару порівняно з традиційним кварцом і стандартною керамікою.

Наука про SiSiC: Чому реакційне з’єднання має значення

На відміну від спеченого SiC, який утворюється за допомогою консолідації порошку під високим тиском,Вафельний човен SiSiC отримують шляхом інфільтрації пористої вуглецевої преформи розплавленим кремнієм. Цей процес «реакційного склеювання» призводить до отримання матеріалу з майже нульовою усадкою під час виробництва, що дозволяє виготовляти складні великомасштабні архітектури човнів із неймовірною точністю розмірів.

1. Чудова стійкість до термічного удару

Однією з найбільш критичних проблем у пакетній обробці є швидкий цикл печі «пуш-тягни». Кварцові носії часто тріскаються під дією термічного навантаження. SiSiC має значно вищий модуль міцності (MOR) і чудову теплопровідність. Це дозволяє нашим човнам витримувати різке підвищення температури без ризику пошкодження конструкції, що безпосередньо призводить до скорочення часу простою обладнання.

2. Висока несуча здатність при температурі

Зі збільшенням розмірів пластин і збільшенням партій для максимізації пропускної здатності вага носія збільшується. Наші човни з SiSiC демонструють виняткову стійкість до повзучості. У той час як інші матеріали можуть прогинатися або деформуватися під сильними навантаженнями при 1250°C, SiSiC зберігає свою геометрію, гарантуючи, що паралельність слотів пластини залишається ідеальною протягом тисяч циклів.

3. Хімічна інертність і цілісність поверхні

Наші човни SiSiC розроблені для жорстких хімічних середовищ. Матеріал за своєю природою стійкий до корозійних газів, які використовуються в процесах LPCVD і дифузії. Крім того, поверхня обробляється, щоб уникнути міграції «вільного кремнію», забезпечуючи стабільне чисте середовище, яке захищає електричну цілісність ваших пластин.

Технічні характеристики: SiSiC Performance Matrix

Оптимізовано для світових виробничих стандартів

Наша SiSiC Wafer Boat сумісна з провідними світовими виробниками обладнання для печей, включаючи TEL (Tokyo Electron), ASM і Kokusai Electric. Ми пропонуємо індивідуальні рішення для:

Горизонтальні дифузійні печі: довгомірні човни з високоточним прорізуванням для пластин 150 мм і 200 мм.

Системи вертикальних печей: маломасові конструкції, які оптимізують потік газу та теплову рівномірність.

Виробництво сонячних фотоелементів: спеціалізовані носії з SiSiC, розроблені для дифузії великого об’єму POCl3, термін служби яких у 5–10 разів довший, ніж у кварцу.

Експертна думка: для процесів, що перевищують 1380°C, ми рекомендуємо нашу лінію Sintered SiC. Однак для переважної більшості етапів дифузії, окислення та LPCVD SiSiC забезпечує найбільш рентабельне співвідношення продуктивності та тривалості служби в галузі.

Чому варто співпрацювати з нами?

Експертиза матеріалів: ми постачаємо лише високочистий порошок альфа-SiC та кремній електронного класу для нашого процесу реакційного з’єднання.

Точна інженерія: наші можливості шліфування з ЧПК дозволяють виконувати допуски на щілини в межах ±0,02 мм, зменшуючи вібрацію та поломку пластини.

Екологічність і рентабельність інвестицій. Переходячи з кварцу на SiSiC, заводи зазвичай отримують 40% скорочення щорічних витрат на витратні матеріали завдяки значному зменшенню частоти заміни.

Кожен човен, який ми відправляємо, супроводжується сертифікатом відповідності (CoC) і повним звітом про перевірку розмірів, що гарантує, що ваш технологічний комплект готовий до негайної установки в чистій кімнаті.