Вафельний човен для напівпровідникового процесу

Semicorex пропонує вафельні човники, п’єдестали та спеціалізовані підставки для пластин як для вертикальної/колонної, так і для горизонтальної конфігурації. Протягом багатьох років ми є виробником і постачальником плівки для покриття з карбіду кремнію. Наш вафельний човен для напівпровідникового процесу має хорошу цінову перевагу та охоплює більшість європейських та американських ринків. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

Semicorex SiC Wafer Boat for Semiconductor Process, найкраще рішення для обробки та захисту пластин у виробництві напівпровідників. Наш пластинчастий човен для напівпровідникового процесу виготовляється з високоякісного карбіду кремнію, який має гарну стійкість до корозії та чудову стійкість до високих температур і термічного удару. Удосконалена кераміка забезпечує чудову термостійкість і стійкість до плазми, одночасно пом’якшуючи частки та забруднювачі для носіїв пластин великої ємності.

Параметри вафельного човна для напівпровідникового процесу

Технічні властивості
Індекс	одиниця	Значення
Назва матеріалу		Реакційний спечений карбід кремнію	Спечений без тиску карбід кремнію	Перекристалізований карбід кремнію
Композиція		RBSiC	SSiC	R-SiC
Насипна щільність	г/см3	3	3,15 ± 0,03	2,60-2,70
Міцність на згин	МПа (kpsi)	338(49)	380(55)	80-90 (20°C) 90-100 (1400°C)
Міцність на стиск	МПа (kpsi)	1120(158)	3970 (560)	> 600
Твердість	Кнопка	2700	2800	/
Порушення наполегливості	МПа м1/2	4.5	4	/
Теплопровідність	Вт/м.к	95	120	23
Коефіцієнт теплового розширення	10^-6.1/°C	5	4	4.7
Питома теплоємність	Джоуль/г 0k	0.8	0.67	/
Максимальна температура повітря	℃	1200	1500	1600
Модуль пружності	Gpa	360	410	240

Особливості вафельного човна для напівпровідникового процесу

Чудова термостійкість і теплова однорідність
Тонкий кристал SiC з покриттям для гладкої поверхні
Висока стійкість до хімічного очищення
Матеріал розроблений таким чином, щоб не було тріщин і розшарувань.