додому > Продукти > Покриття з карбіду кремнію > ICP Etching Carrier > Високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення
Продукти
Високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення

Високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення

Коли мова йде про процеси обробки пластин, такі як епітаксія та MOCVD, високотемпературне покриття SiC від Semicorex для камер плазмового травлення є найкращим вибором. Наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість завдяки нашому тонкому кристалічному покриттю SiC.

Надіслати запит

Опис продукту

У Semicorex ми розуміємо важливість високоякісного обладнання для обробки пластин. Ось чому наше високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення розроблено спеціально для умов високотемпературного та агресивного хімічного очищення. Наші носії забезпечують рівномірні теплові профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.
Зв’яжіться з нами сьогодні, щоб дізнатися більше про наше високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення.


Параметри високотемпературного покриття SiC для камер плазмового травлення

Основні характеристики покриття CVD-SIC

Властивості SiC-CVD

Кристалічна структура

FCC β фаза

Щільність

г/см³

3.21

Твердість

Твердість за Віккерсом

2500

Розмір зерна

мкм

2~10

Хімічна чистота

%

99.99995

Теплоємність

Дж кг-1 К-1

640

Температура сублімації

2700

Згинальна сила

МПа (RT 4 точки)

415

Модуль Юнга

Gpa (вигин 4 точки, 1300 ℃)

430

Теплове розширення (C.T.E)

10-6К-1

4.5

Теплопровідність

(Вт/мК)

300


Особливості високотемпературного покриття SiC для камер плазмового травлення

- Уникайте відшаровування та забезпечте покриття на всій поверхні

Стійкість до високотемпературного окислення: стабільна при високих температурах до 1600°C

Висока чистота: виготовлено методом CVD хімічного осадження з парової фази в умовах високотемпературного хлорування.

Стійкість до корозії: висока твердість, щільна поверхня і дрібні частинки.

Стійкість до корозії: кислоти, луги, солі та органічні реагенти.

- Досягнення найкращої ламінарної моделі потоку газу

- Гарантія рівності теплового профілю

- Запобігайте будь-якому забрудненню або дифузії домішок





Гарячі теги: Високотемпературне покриття SiC для камер плазмового травлення, Китай, виробники, постачальники, фабрика, індивідуальне, масове, розширене, довговічне
Пов'язана категорія
Надіслати запит
Будь ласка, надішліть свій запит у формі нижче. Ми відповімо вам протягом 24 годин.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept