Порошок карбіду кремнію N-типу Semicorex (SiC) — це легований SiC матеріал високої чистоти, спеціально розроблений для передових застосувань для вирощування кристалів. Semicorex прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
Порошок карбіду кремнію N-типу Semicorex (SiC) — це легований SiC матеріал високої чистоти, спеціально розроблений для передових застосувань для вирощування кристалів. Цей порошок карбіду кремнію N-типу характеризується чудовими електричними властивостями та структурною цілісністю, що робить його ідеальним вибором для виробництва кристалів карбіду кремнію, які використовуються в різних високоефективних напівпровідникових пристроях.
Порошок карбіду кремнію N-типу легований азотом (N), який вводить додаткові вільні електрони в кристалічну решітку SiC, підвищуючи її електропровідність. Це легування N-типу має вирішальне значення для застосувань, які вимагають точних електронних властивостей. Порошок карбіду кремнію N-типу піддається суворим процесам очищення для досягнення високого рівня чистоти, зводячи до мінімуму присутність домішок, які можуть вплинути на процес росту кристалів і продуктивність кінцевого продукту.
Порошок карбіду кремнію N-типу Semicorex складається з дрібних частинок однакового розміру, які сприяють рівномірному росту кристалів і покращують загальну якість кристалів карбіду кремнію.
В основному використовується для вирощування кристалів карбіду кремнію, цей порошок карбіду кремнію N-типу є невід’ємною частиною виробництва потужних електронних пристроїв, датчиків високої температури та різноманітних оптоелектронних компонентів. Він також підходить для використання в дослідженнях і розробках у напівпровідниковій промисловості.
характеристики
Модель | Чистота | Щільність упаковки | D10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7 г/см3 | 100 мкм | 300 мкм | 500 мкм |
SiC-N-M | >6N | <1,3 г/см3 | 500 мкм | 1000 мкм | 2000 мкм |
SiC-N-L | >6N | <1,3 г/см3 | 1000 мкм | 1500 мкм | 2500 мкм |
Застосування:
Вирощування кристалів карбіду кремнію: використовується як вихідний матеріал для вирощування високоякісних кристалів SiC.
Напівпровідникові пристрої: ідеально підходить для потужних і високочастотних електронних компонентів.
Високотемпературна електроніка: підходить для програм, які вимагають надійної роботи в екстремальних умовах.
Оптоелектроніка: використовується в пристроях, які вимагають виняткових теплових і електричних властивостей.