Semicorex Graphite Thermal Field поєднує в собі передову науку про матеріали з глибоким розумінням процесів росту кристалів, надає інноваційне рішення, яке дозволяє напівпровідниковій промисловості досягти нових рівнів продуктивності, ефективності та економічності.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon є незамінним активом у світі епітаксії, забезпечуючи надійне рішення проблем, пов’язаних із високими температурами, реактивними газами та суворими вимогами до чистоти.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex CVD TaC Coating Cover стає критично важливою технологією у складних середовищах епітаксійних реакторів, які характеризуються високими температурами, реактивними газами та суворими вимогами до чистоти, що вимагає міцних матеріалів для забезпечення стабільного росту кристалів і запобігання небажаним реакціям.**
ДетальнішеНадіслати запитІнструменти Semicorex Graphite Single Silicon Pulling Tools постають неоспіваними героями у вогняному тиглі печей для вирощування кристалів, де температура різко зростає, а точність панує на висоті. Їх чудові властивості, відточені завдяки інноваційному виробництву, роблять їх необхідними для створення бездоганного монокристалічного кремнію.**
ДетальнішеНадіслати запитНаправляюче кільце покриття Semicorex TaC є найважливішою частиною обладнання для металоорганічного хімічного осадження з парової фази (MOCVD), забезпечуючи точну та стабільну подачу газів-попередників під час процесу епітаксійного росту. Направляюче кільце покриття TaC має низку властивостей, які роблять його ідеальним для витримування екстремальних умов у камері реактора MOCVD.**
ДетальнішеНадіслати запитПрихильність Semicorex якості та інноваціям очевидна в сегменті покриття SiC MOCVD. Забезпечуючи надійну, ефективну та високоякісну епітаксію SiC, він відіграє життєво важливу роль у розширенні можливостей напівпровідникових пристроїв наступного покоління.**
ДетальнішеНадіслати запит