SiC-суцептор для ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch виготовляється з упором на підтримку високих стандартів якості та стабільності. Надійні виробничі процеси, які використовуються для створення цих приймачів, гарантують, що кожна партія відповідає суворим критеріям продуктивності, забезпечуючи надійні та стабільні результати травлення напівпровідників. Крім того, Semicorex може запропонувати швидкі графіки доставки, що має вирішальне значення для того, щоб йти в ногу зі швидкими вимогами напівпровідникової промисловості, забезпечуючи дотримання термінів виробництва без шкоди для якості. Ми в Semicorex націлені на виробництво та постачання високопродуктивних SiC Susceptor для ICP Etch, який поєднує якість з економічною ефективністю.**

Надіслати запит

Опис продукту

Semicorex SiC Susceptor для ICP Etch відомий своєю чудовою теплопровідністю, яка забезпечує швидкий і рівномірний розподіл тепла по поверхні. Ця функція має вирішальне значення для підтримки постійної температури під час процесу травлення, забезпечуючи високу точність перенесення малюнка. Крім того, низький коефіцієнт теплового розширення SiC зводить до мінімуму зміни розмірів за змінних температур, таким чином зберігаючи структурну цілісність і підтримуючи точне й рівномірне видалення матеріалу.

Однією з видатних властивостей SiC Susceptor для ICP Etch є їх стійкість до впливу плазми. Цей опір гарантує, що чутливий пристрій не деградує та не руйнується в суворих умовах плазмового бомбардування, яке є звичайним у цих процесах травлення. Ця довговічність підвищує надійність процесу травлення та сприяє створенню чистих, добре визначених візерунків травлення з мінімальними дефектами.

SiC Susceptor для ICP Etch за своєю суттю стійкий до корозії сильними кислотами та лугами, що є важливою властивістю для матеріалів, які використовуються в середовищах ICP травлення. Ця хімічна стійкість гарантує, що SiC Susceptor для ICP Etch зберігає свої фізичні та механічні властивості протягом тривалого часу, навіть якщо піддається впливу агресивних хімічних реагентів. Ця довговічність зменшує потребу в частій заміні та обслуговуванні, тим самим знижуючи експлуатаційні витрати та збільшуючи час безвідмовної роботи потужностей з виробництва напівпровідників.

Semicorex SiC Susceptor для ICP Etch можна точно сконструювати, щоб відповідати конкретним вимогам до розмірів, що є критичним фактором у виробництві напівпровідників, де часто потрібне налаштування для відповідності різним розмірам пластин і специфікаціям обробки. Ця адаптивність забезпечує кращу інтеграцію з існуючим обладнанням і технологічними лініями, оптимізуючи загальну ефективність і результативність процесу травлення.