Електростатичний патрон E-Chuck

Електростатичний патрон Semicorex E-Chuck працює на основі принципів електростатичного притягання, забезпечуючи надійне та точне утримання пластини без необхідності механічних затискачів або вакуумного відсмоктування, особливо використовується для травлення, іонного застосування.

обробка напівпровідників, PVD, CVD тощо. Його настроювані розміри роблять його адаптованим до широкого діапазону застосувань, що робить його ідеальним вибором для компаній, яким потрібна гнучкість і ефективність у процесах виготовлення напівпровідників.

Фундаментальна технологія електростатичного патрона типу J-R E-Chuck полягає в його здатності створювати електростатичну силу між пластиною та поверхнею патрона. Ця сила створюється шляхом подачі високої напруги на електроди, вбудовані в патрон, що індукує заряди як на пластині, так і на патроні, тим самим створюючи міцний електростатичний зв’язок. Цей механізм не тільки надійно утримує пластину на місці, але й мінімізує фізичний контакт між пластиною та патроном, зменшуючи потенційне забруднення або механічний вплив, які можуть пошкодити чутливі напівпровідникові матеріали.

Semicorex може виготовляти продукцію на замовлення від 200 мм до 300 мм або навіть більше, залежно від вимог клієнтів. Пропонуючи ці настроювані параметри, ESC типу J-R забезпечує максимальну гнучкість для ряду напівпровідникових процесів, включаючи плазмове травлення, хімічне осадження з парової фази (CVD), фізичне осадження з парової фази (PVD) та іонну імплантацію.

Що стосується матеріалів, Electrostatic Chuck E-Chuck виготовляється з високоякісних керамічних матеріалів, таких як оксид алюмінію (Al2O3) або нітрид алюмінію (AlN), які відомі своїми чудовими діелектричними властивостями, механічною міцністю та термічною стабільністю. Ця кераміка забезпечує патрону необхідну довговічність, щоб витримувати важкі умови виробництва напівпровідників, такі як високі температури, корозійне середовище та вплив плазми. Крім того, керамічна поверхня відполірована до високого ступеня гладкості, щоб забезпечити рівномірний контакт із пластиною, підвищуючи електростатичну силу та покращуючи загальну продуктивність процесу.

Електростатичний патрон E-Chuck також розроблений для вирішення теплових проблем, які зазвичай виникають у виробництві напівпровідників. Управління температурою має вирішальне значення під час таких процесів, як травлення або осадження, коли температура пластини може швидко коливатися. Керамічні матеріали, які використовуються в патроні, забезпечують чудову теплопровідність, допомагаючи ефективно розсіювати тепло та підтримувати стабільну температуру пластини.

Електростатичний патрон E-Chuck розроблено з акцентом на мінімізацію забруднення частинками, що є критичним у виробництві напівпровідників, де навіть мікроскопічні частинки можуть призвести до дефектів кінцевого продукту. Гладка керамічна поверхня патрона зменшує ймовірність прилипання частинок, а зменшений фізичний контакт між пластиною та патроном завдяки електростатичному утримуючому механізму додатково знижує ризик забруднення. Деякі моделі J-R типу ESC також містять удосконалені покриття або обробку поверхні, які відштовхують частинки та протистоять корозії, підвищуючи довговічність і надійність патрона в чистих приміщеннях.

Таким чином, електростатичний патрон типу J-R E-Chuck є універсальним і надійним рішенням для утримання пластин, яке забезпечує виняткову продуктивність у широкому діапазоні процесів виробництва напівпровідників. Його настроюваний дизайн, передова електростатична технологія утримання та міцні властивості матеріалу роблять його ідеальним вибором для компаній, які прагнуть оптимізувати роботу з пластинами, зберігаючи при цьому найвищі стандарти чистоти та точності. Незалежно від того, чи використовується він для плазмового травлення, осадження чи іонної імплантації, ESC типу J-R забезпечує гнучкість, довговічність та ефективність, необхідні для задоволення високих потреб сучасної напівпровідникової промисловості. Завдяки своїй здатності працювати як в режимах Кулона, так і в режимах Джонсена-Рабека, витримувати високі температури та протистояти забрудненню частинками, ESC типу J-R є критично важливим компонентом у прагненні до підвищення продуктивності та покращення результатів процесу.