Продукти

Коли мова йде про процеси обробки пластин, такі як епітаксія та MOCVD, високотемпературне покриття SiC від Semicorex для камер плазмового травлення є найкращим вибором. Наші носії забезпечують чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість завдяки нашому тонкому кристалічному покриттю SiC.

Лоток для плазмового травлення ICP від ​​Semicorex розроблений спеціально для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Носій Semicorex із покриттям SiC для системи плазмового травлення ICP є надійним і економічно ефективним рішенням для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Наші носії мають тонке кристалічне покриття SiC, яке забезпечує чудову термостійкість, рівномірну термічну однорідність і тривалу хімічну стійкість.

Токоприймач із покриттям із карбіду кремнію Semicorex для індуктивно-зв’язаної плазми (ICP) розроблено спеціально для процесів обробки високотемпературних пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Тримач пластин ICP для травлення Semicorex є ідеальним рішенням для високотемпературних процесів обробки пластин, таких як епітаксія та MOCVD. Завдяки стабільній високотемпературній стійкості до окислення до 1600°C, наші носії забезпечують рівномірні термічні профілі, ламінарні схеми потоку газу та запобігають забрудненню або дифузії домішок.

Несуча пластина ICP Etching Carrier Plate від Semicorex є ідеальним рішенням для вимогливої ​​обробки пластин і процесів осадження тонкої плівки. Наш продукт забезпечує чудову термостійкість і стійкість до корозії, рівномірну термічну однорідність і ламінарну структуру потоку газу. Завдяки чистій і гладкій поверхні наш носій ідеально підходить для обробки незайманих вафель.