Продукти

Semicorex Porous SIC Chuck-це високопродуктивний керамічний вакуумний патрон, призначений для безпечної та рівномірної адсорбції вафельних вафель у переробці напівпровідників. Його інженерна мікропориста структура забезпечує відмінний вакуумний розподіл, що робить його ідеальним для точних застосувань.*

Semicorex SIC-вакуумні умови-це високоефективна керамічна кріплення, призначена для безпечної адсорбції вафель у виробництві напівпровідників. Завдяки чудовим тепловим, механічним та хімічним властивостям, він забезпечує стабільність та точність у вимогливих технологічних середовищах.*

Semicorex SIC-носій для ICP-це високопродуктивний власник вафельних виробів, виготовлений з графіту, покритого SIC, розроблений спеціально для використання в індуктивно пов'язаних плазмових (ICP) травлення та осадження. Виберіть Semicorex для нашого провідного світового анізотропного графітового якості, точного виробництва невеликих партів та безкомпромісної прихильності до чистоти, послідовності та продуктивності процесу.*

Пластина з покриттям Semicorex SIC-це точний інженерний компонент, виготовлений з графіту з кремнієвим покриттям з високою чистотою, призначеним для вимогливих епітаксіальних застосувань. Виберіть Semicorex для своєї провідної в галузі технології покриття CVD, суворого контролю якості та доведеної надійності в напівпровідникових умовах.*

Консольні весла Semicorex SIC-це високопродуктивні консольні весла карбіду кремнію, що використовуються в напівпровідниковому обладнанні термічної обробки, призначеного для стабільної обробки вафель у високотемпературних умовах. Вибір Semicorex означає вибирати матеріали з високою чистотою, відмінну термічну стійкість та технологію виготовлення точності в галузі, щоб забезпечити стабільний і надійний кожен ваш критичний процес.*

Власники човнів Semicorex SIC - це важливі структурні компоненти, які забезпечують точне та надійне позиціонування вафель у напівпровідниковій термічній обробці. Виберіть Semicorex для неперевершеної якості, технічної експертизи та зобов’язання просувати рішення SIC високої чистоти у виробництві напівпровідників.*