Диск травлення SiC ICP

Semicorex SiC ICP Etching Disk — це не просто компоненти; це важливий фактор виробництва передових напівпровідників, оскільки напівпровідникова промисловість продовжує свою невпинну гонитву за мініатюризацією та продуктивністю, попит на передові матеріали, такі як SiC, лише посилюватиметься. Він забезпечує точність, надійність і продуктивність, необхідні для роботи нашого технологічного світу. Ми в Semicorex займаємося виробництвом і постачанням високопродуктивних SiC ICP Etching Disk, які поєднують якість з економічною ефективністю.**

Надіслати запит

Опис продукту

Прийняття Semicorex SiC ICP Etching Disk є стратегічним вкладенням в оптимізацію процесу, надійність і, зрештою, чудову продуктивність напівпровідникових пристроїв. Переваги відчутні:

Покращена точність і рівномірність травлення:Чудова термічна та розмірна стабільність SiC ICP Etching Disk сприяє більш рівномірній швидкості травлення та точному управлінню функціями, мінімізуючи варіації між пластинами та покращуючи продуктивність пристрою.

Подовжений термін служби диска:Надзвичайна твердість і стійкість до зносу та корозії SiC ICP Etching Disk призводять до значно довшого терміну служби диска порівняно зі звичайними матеріалами, зменшуючи витрати на заміну та час простою.

Легкий для покращеної продуктивності:Незважаючи на виняткову міцність, SiC ICP Etching Disk є напрочуд легким матеріалом. Ця менша маса перетворюється на зменшення інерційних сил під час обертання, що забезпечує швидші цикли прискорення та уповільнення, що покращує пропускну здатність процесу та ефективність обладнання.

Збільшення пропускної здатності та продуктивності:Легкість SiC ICP Etching Disk і його здатність витримувати швидкі термічні цикли сприяють пришвидшенню часу обробки та збільшенню пропускної здатності, максимізуючи використання обладнання та продуктивність.

Знижений ризик зараження:Хімічна інертність диска SiC ICP Etching Disk і стійкість до плазмового травлення зводять до мінімуму ризик забруднення частинками, що має вирішальне значення для підтримки чистоти чутливих напівпровідникових процесів і забезпечення якості пристрою.

Застосування CVD та вакуумного напилення:Крім травлення, виняткові властивості SiC ICP Etching Disk також роблять його придатним для використання в якості підкладки в процесах хімічного осадження з парової фази (CVD) і вакуумного напилення, де його високотемпературна стабільність і хімічна інертність є важливими.