Графітове покриття TaC створюється шляхом покриття поверхні високочистої графітової підкладки тонким шаром карбіду танталу за допомогою запатентованого процесу хімічного осадження з парової фази (CVD).
Карбід танталу (TaC) - це сполука, яка складається з танталу та вуглецю. Він має металеву електропровідність і надзвичайно високу температуру плавлення, що робить його вогнетривким керамічним матеріалом, відомим своєю міцністю, твердістю, термостійкістю та зносостійкістю. Точка плавлення карбідів танталу досягає максимуму приблизно при 3880°C залежно від чистоти і має одну з найвищих точок плавлення серед бінарних сполук. Це робить його привабливою альтернативою, коли вимоги до більш високих температур перевищують продуктивність, що використовується в епітаксіальних процесах складних напівпровідників, таких як MOCVD і LPE.
Дані матеріалу Semicorex TaC Coating
Проекти |
Параметри |
Щільність |
14,3 (г/см³) |
Коефіцієнт випромінювання |
0.3 |
КТР (×10-6/K) |
6.3 |
Твердість (HK) |
2000 |
Опір (Ом-см) |
1×10-5 |
Термічна стабільність |
<2500 ℃ |
Зміна розміру графіту |
-10~-20um (довідкове значення) |
Товщина покриття |
Типове значення ≥20um (35um±10um) |
|
|
Вищенаведені типові значення |
|
Направляюче кільце з карбіду танталу Semicorex — це кільце з графіту, покрите карбідом танталу, яке використовується в печах для вирощування кристалів карбіду кремнію для підтримки затравкових кристалів, оптимізації температури та підвищеної стабільності росту. Виберіть Semicorex за його вдосконалені матеріали та дизайн, які значно підвищують ефективність і якість росту кристалів.*
ДетальнішеНадіслати запитКільце з карбіду танталу Semicorex — це кільце з графіту, покрите карбідом танталу, яке використовується як напрямне кільце в печах для вирощування кристалів карбіду кремнію для забезпечення точного контролю температури та потоку газу. Виберіть Semicorex за його передову технологію покриття та високоякісні матеріали, які постачають міцні та надійні компоненти, які підвищують ефективність росту кристалів і термін служби продукту.*
ДетальнішеНадіслати запитВафельний лоток із покриттям Semicorex TaC повинен бути розроблений таким чином, щоб витримувати виклики екстремальні умови всередині реакційної камери, включаючи високі температури та хімічно реактивне середовище.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex TaC Coating Plate виділяється як високопродуктивний компонент для вимогливого процесу епітаксійного росту та подальших середовищ виробництва напівпровідників. Завдяки серії чудових властивостей вона може в кінцевому підсумку підвищити продуктивність і економічну ефективність передових процесів виготовлення напівпровідників.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon є незамінним активом у світі епітаксії, забезпечуючи надійне рішення проблем, пов’язаних із високими температурами, реактивними газами та суворими вимогами до чистоти.**
ДетальнішеНадіслати запитSemicorex CVD TaC Coating Cover стає критично важливою технологією у складних середовищах епітаксійних реакторів, які характеризуються високими температурами, реактивними газами та суворими вимогами до чистоти, що вимагає міцних матеріалів для забезпечення стабільного росту кристалів і запобігання небажаним реакціям.**
ДетальнішеНадіслати запит